[实用新型]曝光机光学系统有效
| 申请号： | 201820002395.2 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN207623682U | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 齐鹏煜;姜晶晶;汪栋 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学系统 曝光机 蝇眼透镜 本实用新型 细光束 光学过滤器 光源利用率 改变设备 确保设备 相邻设置 超细线 出射 光路 照度 光源 扩散 分裂 开发 | ||
1.一种曝光机光学系统，其特征在于，包括：
光源，用于提供初始光束；
蝇眼透镜，位于所述初始光束的光路上，用于将所述初始光束分裂为多个细光束；
光学过滤器，与所述蝇眼透镜相邻设置，用于控制所述蝇眼透镜出射所述细光束的照度以及扩散幅度。
2.根据权利要求1所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述光学过滤器由位于同一平面的多个滤片拼合组成。
3.根据权利要求2所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述滤片上均设置有光衰减涂层，所述光衰减涂层用于改变所述蝇眼透镜出射所述细光束的透过率。
4.根据权利要求3所述的曝光机光学系统，其特征在于，位于四周的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度大于位于中间区域的所述光衰减涂层对所述细光束的衰减程度。
5.根据权利要求4所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述光学过滤器安装于第一滑轨上，并能够在所述第一滑轨上沿垂直于所述细光束的光路方向滑动。
6.根据权利要求5所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述蝇眼透镜安装于第二滑轨上，并能够在所述第二滑轨上沿所述初始光束的光路方向滑动。
7.根据权利要求6所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述曝光机光学系统还包括定位仪，用于显示定位路径，所述第二滑轨设置于所述定位路径上。
8.根据权利要求7所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述定位仪显示的定位路径带有刻度标识，用于精确定位所述蝇眼透镜的位置。
9.根据权利要求8所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述定位仪为激光定位仪。
10.根据权利要求1～9任一项所述的曝光机光学系统，其特征在于，所述蝇眼透镜由多个凸面镜拼接组成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820002395.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种无抽气管式晒版机
- 下一篇：一种PCB板防焊显影装置
