[实用新型]一种新型半导体清洗机

说明书

本实用新型公开了一种新型半导体清洗机，包括半导体清洗机本体、散热层、清洗层、消毒层、控制层和清洗机底座，所述半导体清洗机本体内顶部设有散热层，且散热层内底部设有通风口，所述出风口一侧设有散热片，所述散热层底部设有控制层，且控制层一侧设有清洗机开关，所述清洗机开关一侧设有信号指示灯，且信号指示灯一侧设有工作指示屏，所述控制层底部设有清洗层，且清洗层内顶部一侧通过连接座安装超声波清洗器，所述超声波清洗器一侧设有清洗设备，所述清洗设备一侧通过安置架安装蒸汽制造器，所述清洗层内底部设有加热电阻。该种新型半导体清洗机功能强大，设计科学，操作方便，稳定性好，可靠性高，适合广泛推广。

技术领域

本实用新型涉及一种清洗机，特别涉及一种新型半导体清洗机。

背景技术

半导体产业是现代电子工业的核心，而半导体产业的基础是硅材料工业。硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视。随着微电子技术的飞速发展以及人们对原料要求的提高，污染物对器件的影响也愈加突出。

目前，现有的半导体清洗机对深度清洗和消毒方面做得不是很完善，在清洗时会出现漏水的情况，影响清洗机使用寿命，也增加工作人员工作负担。为此，我们提出一种防护效果好的步进电机驱动器。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种新型半导体清洗机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种新型半导体清洗机，包括半导体清洗机本体、散热层、清洗层、消毒层、控制层和清洗机底座，所述半导体清洗机本体内顶部设有散热层，且散热层内底部设有通风口，所述出风口一侧设有散热片，所述散热层底部设有控制层，且控制层一侧设有清洗机开关，所述清洗机开关一侧设有信号指示灯，且信号指示灯一侧设有工作指示屏，所述控制层底部设有清洗层，且清洗层内顶部一侧通过连接座安装超声波清洗器，所述超声波清洗器一侧设有清洗设备，所述清洗设备一侧通过安置架安装蒸汽制造器，所述清洗层内底部设有加热电阻，所述加热电阻底部设有防漏底层，所述清洗层一侧具有玻璃门，所述清洗层底部设有消毒层，且消毒层内顶部两侧均通过螺杆安装紫外线消毒灯，所述紫外线消毒灯底部通过螺栓安装置物架，所述消毒层底部设有清洗机底座。

进一步地，所述散热片与出风口交叉相连。

进一步地，所述玻璃门闭合处具有机械开关。

进一步地，所述清洗机底座内通过安置架安装阻尼减震器。

进一步地，所述清洗机底座底部通过螺杆安装可制动万向轮。

进一步地，所述半导体清洗机本体顶部通过高强螺栓安装温湿度显示器。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：一种新型半导体清洗机，通过散热片和出风口的设置，散热片具有导热、散热功能，热量从出风口排出，有效的去除设备内部的热量，使得散热效果更好，通过超声波清洗器的设置，可以实现孔内清洗，清洗不重复，无污染，使得清洗的更加彻底，通过玻璃门的设置，可以使得工作人员很好的观察清洗的情况，以便于及时作出作业调整，通过加热电阻的设置，可以在清洗时，给清洗液加热，提高清洗的效率，通过阻尼减震器的设置，可以起到很好的减震作用，使得设备运行的更加稳定，通过可制动万向轮的设置，使得设备在移动和运输方面更加的便捷，通过置物架的设置，可以将清洗后的物品置放在置物架上，通过紫外线消毒灯的设置，可以将清洗完的物品进行再次消毒，通过防漏底层的设置，可以防止在清洗时清洗液泄露，通过蒸汽制造器的设置，可以在清洗时给清洗层注入蒸汽，起到了清洗时杀菌的效果，通过温湿度显示器的设置，便于工作人员实时察看温湿度情况。

附图说明

图1为本实用新型用于新型半导体清洗机的整体结构示意图。