[实用新型]光学陶瓷材料的热处理装置

说明书

本实用新型提供一种光学陶瓷材料的热处理装置。该光学陶瓷材料的热处理装置为一具有空腔的中空球体，其分割为上下两个半球；上半球内悬挂有至少一根的加热管，加热管延伸至下半球的空腔内；一放置平台通过吊挂机构悬挂在上半球上，并设置在下半球的空腔内；使用时，光学陶瓷材料放置在放置平台上；一冷媒腔设置在下半球的空腔内，冷媒腔为一半球形的壁向外与下半球的内壁形成的腔体，冷媒腔的壁向内包围形成内腔，放置平台位于该内腔内，加热管延伸至该内腔内；一冷媒进入口和一冷媒输出口设置于下半球的壁上、并于冷媒腔相连通。本实用新型的光学陶瓷材料的热处理装置，能够进行稳定的热处理和稳定的退火，不存在冷媒直接接触光学陶瓷材料的情形，避免冷媒对光学陶瓷材料的冲击。

技术领域

本实用新型涉及一种光学陶瓷材料的热处理装置，属于光学陶瓷材料技术领域。

背景技术

构成曝光装置的光学系统所使用的合成石英玻璃或氟化钙、氟化钡等光学陶瓷材料随着曝光装置的光源的短波长化不断发展，而要求非常高的透光率。这种需要高透光率的光学陶瓷材料是使用经化学合成的高纯度的原料而制造。

但是，因为在所制造的光学陶瓷材料的内部，残留着来源于制造时的热历程的各种应力，所以，为了降低该应力，而进行称为退火处理的热处理，从而使残留应力下降，使折射率的均匀性提升，并且使双折射降低。

但是现有技术中，退火处理步骤中因为冷媒对光学陶瓷材料的冲击，常常会导致材料退火不均一，造成光学陶瓷材料的的理化性质不稳定、不均一，影响对于产品折射率的提升。

实用新型内容

鉴于现有技术中的缺陷，实用新型的目的是提出一种光学陶瓷材料的热处理装置，能够进行稳定的热处理和稳定的退火，避免冷媒对光学陶瓷材料的冲击。

为了达到前述的实用新型目的，本实用新型提供一种光学陶瓷材料的热处理装置，该光学陶瓷材料的热处理装置为一具有空腔的中空球体，其分割为上下两个半球，其上半球的体积不大于下半球的体积的25%；

所述上半球内悬挂有至少一根的加热管，所述加热管延伸至下半球的空腔内；

一放置平台通过吊挂机构悬挂在所述上半球上，并设置在下半球的空腔内；使用时，所述光学陶瓷材料放置在所述放置平台上；

一冷媒腔设置在所述下半球的空腔内，所述冷媒腔为一半球形的壁向外与下半球的内壁形成的腔体，所述冷媒腔的壁向内包围形成内腔，所述放置平台位于该内腔内，所述加热管延伸至该内腔内；

一冷媒进入口和一冷媒输出口设置于所述下半球的壁上、并于冷媒腔相连通。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，冷媒腔的形成能够和加热管协同作用，控制升温的幅度和温度；同时，在退火时，冷媒腔通过直接热交换，不存在冷媒直接接触光学陶瓷材料的情形，也不会出现退火过于急速的情况，能够保证光学陶瓷材料的物理性质的稳定，提升折射品质。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，优选的，

上下两个半球的结合处、在上半球上封闭有一个平面，所述加热管悬挂在所述平面上，所述放置平台通过吊挂机构悬挂在所述平面上。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，优选的，所述吊挂机构包括钢丝绳。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，优选的，

所述上半球内悬挂有至少三根的加热管，其中至少一根的加热管位于放置平台的上方；放置平台上方的加热管的长度短于其他位置的加热管的长度。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，放置平台上方的加热管能够更好地进行加热，热效率更高。

上述的光学陶瓷材料的热处理装置中，优选的，该光学陶瓷材料的热处理装置好包括支架机构；