[实用新型]蒸发源装置以及溅射镀膜设备

说明书

本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源装置以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源装置包括第一蒸发源机构、与所述第一蒸发源机构水平错位的第二蒸发源机构以及用于驱动所述第二蒸发源机构上下运动的升降驱动机构。由于将蒸发源装置分为第一蒸发源机构和第二蒸发源机构，第一蒸发源机构和第二蒸发源机构能够单独供应，且还由于第二蒸发源机构与第一蒸发源机构水平错位，升降驱动机构能够驱动第二蒸发源机构上下运动，这样，当出现出料量不同时，则可通过升降驱动机构驱动第二蒸发源机构上下运动，以改变第一出料口与第二出料口之间的出料位置，能够调整镀膜的厚度，从而提高镀膜的均匀性。

技术领域

本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源装置以及溅射镀膜设备。

背景技术

蒸发源装置包括具有蒸发腔的蒸发箱以及两个置于蒸发腔内的坩埚，蒸发箱于其侧壁开设于蒸发腔连通与真空镀膜室对接的出料口，其中，由于两坩埚均置于同一蒸发箱内，而蒸发箱仅开设有一个出料口，这样，在使用过程中，当出料口的上下区域的出料量不同时，不能进行调整，从而导致镀膜的均匀性较差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种蒸发源装置，其旨在解决镀膜的均匀性较差的问题。

本实用新型是这样实现的：

一种蒸发源装置，与真空镀膜室配合使用，包括第一蒸发源机构、与所述第一蒸发源机构水平错位的第二蒸发源机构以及用于驱动所述第二蒸发源机构上下运动的升降驱动机构，所述第一蒸发源机构包括具有第一蒸发腔的第一蒸发箱以及置于所述第一蒸发腔内的第一坩埚，所述第一坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的第一存药腔，所述第一蒸发箱于其侧壁开设于所述第一蒸发腔连通与所述真空镀膜室对接的第一出料口，所述第二蒸发源机构包括具有第二蒸发腔的第二蒸发箱以及置于所述第二蒸发腔内的第二坩埚，所述第二坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的第二存药腔，所述第二蒸发箱于其侧壁开设于第二蒸发腔连通与所述真空镀膜室对接的第二出料口。

由于将蒸发源装置分为第一蒸发源机构和第二蒸发源机构，第一蒸发源机构和第二蒸发源机构能够单独供应，且还由于第二蒸发源机构与第一蒸发源机构水平错位，升降驱动机构能够驱动第二蒸发源机构上下运动，这样，当出现出料量不同时，则可通过升降驱动机构驱动第二蒸发源机构上下运动，以改变第一出料口与第二出料口之间的出料位置，能够调整镀膜的厚度，从而提高镀膜的均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的蒸发源装置的结构示意图，其中，第一蒸发箱部分结构透视，以便于观察显示出第一坩埚，第二蒸发箱部分结构透视，以便于观察显示出第二坩埚；

图2是图1中AA方向的剖视图。

附图标号说明：

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型实施例提供一种蒸发源装置，与真空镀膜室配合使用，可以用于镀制AR膜以及在镀制AG膜后的基础上再镀制AF膜。