[实用新型]一种铝镓氮基紫外光源器件的结构有效
申请号: | 201820028341.3 | 申请日: | 2018-01-05 |
公开(公告)号: | CN207731944U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 贺龙飞;陈志涛;赵维;张康;吴华龙;何晨光;王巧;刘云洲;廖乾光 | 申请(专利权)人: | 广东省半导体产业技术研究院 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 符莹莹 |
地址: | 510000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子垒层 紫外光源 发光有源区 量子阱层 组分渐变 铝镓氮 半导体技术领域 空穴注入效率 本实用新型 电子限制 发光效率 交替设置 量子效率 能带结构 外延结构 优化器件 接触层 有效地 衬底 引入 | ||
1.一种铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述铝镓氮基紫外光源器件的结构的外延结构包括依次设置的衬底、AlN缓冲层、n型AlGaN层、AlxGa1-xN/AlyGa1-yN发光有源区、最后一个AlGaN量子垒层、p型AlGaN电子阻挡层、p型AlGaN层和接触层,其中0.01≤x<y≤1,所述AlxGa1-xN/AlyGa1-yN发光有源区包括多个量子阱层与多个AlGaN量子垒层,多个所述量子阱层与多个所述AlGaN量子垒层交替设置,使得第一个所述AlGaN量子垒层靠近所述n型AlGaN层设置,最后一个所述量子阱层靠近所述最后一个AlGaN量子垒层设置,且最后一个AlGaN量子垒层为铝组分渐变层。
2.根据权利要求1所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述AlxGa1-xN/AlyGa1-yN发光有源区包含N个量子阱层与N个AlGaN量子垒层,其中2≤N≤20;
其中,N个所述量子阱层与N个AlGaN量子垒层中铝组分恒定不变,N个所述量子阱层与N个所述AlGaN量子垒层交替设置;
所述最后一个量子垒层中铝组分在生长方向上呈线性渐变、非线性渐变的阶梯变化。
3.根据权利要求2所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述最后一个AlGaN量子垒层中铝组分在接触最后一个量子阱时最高,且沿着生长方向上铝组分越来越低,直到接触p型AlGaN电子阻挡层时降到最低。
4.根据权利要求3所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述最后一个AlGaN量子垒层为两组铝组分递减的AlGaN薄层多次交替叠加而成,两组之间的铝组分是不同的;且在靠近所述p型AlGaN电子阻挡层的方向上,每组AlGaN薄层中铝组分均逐渐降低。
5.根据权利要求2所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述最后一个AlGaN量子垒层中铝组分分别在接触最后一个量子阱和所述p型AlGaN电子阻挡层时最高,由两端向此层中间铝组分递减,在最后一个AlGaN量子垒层中形成一个铝组分坑。
6.根据权利要求5所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述最后一个AlGaN量子垒层为两组铝组分先递减再递增的AlGaN薄层多次交替叠加而成,两组之间的铝组分是不同的;且越靠近所述最后一个量子阱和所述p型AlGaN电子阻挡层,AlGaN薄层中铝组分越高,并向中间铝组分递减,在中间某处最低。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述最后一个AlGaN量子垒层中最高的铝组分数值小于或者等于所述p型AlGaN电子阻挡层中的铝组分数值,其最低铝组分数值大于所述量子阱层中铝组分数值。
8.根据权利要求7所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述量子阱层的厚度为1.5~10nm。
9.根据权利要求7所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于:
所述量子垒层的厚度为4~20nm。
10.根据权利要求1或2所述的铝镓氮基紫外光源器件的结构,其特征在于,包括:
所述衬底选自GaN衬底、6H-SiC衬底、4H-SiC衬底、Si衬底、AlN衬底或者溅射了AlN的蓝宝石衬底中的任一种。
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