[实用新型]一种岩样处理托盘及与之适配的岩样处理水浴箱有效
申请号: | 201820046764.8 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN207946277U | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 石正勇;龚炜;金芸芸;任霄宇;李小桃 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司河南油田分公司勘探开发研究院 |
主分类号: | G01N1/44 | 分类号: | G01N1/44;G01N1/34 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 胡晓东 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盛物 载物盘 岩样 处理托盘 顶盖 处理水 适配 浴箱 下沉式结构 一体设置 让位孔 本实用新型 处理和管理 烃源岩样品 操作对象 定位作用 承接面 上表面 伸入 盐酸 承接 混淆 倾倒 浮动 | ||
1.一种岩样处理托盘,其特征在于:包括载物盘和与载物盘一体设置的盛物杯,所述载物盘的下表面形成被承接面,被承接面被水浴箱箱体的顶盖上表面承接,所述盛物杯的杯口所在平面与载物盘的上端面平齐,盛物杯的整体在载物盘上形成下沉式结构。
2.根据权利要求1所述的岩样处理托盘,其特征在于:所述盛物杯以矩阵形式分布在所述载物盘上。
3.根据权利要求2所述的岩样处理托盘,其特征在于:所述矩阵形式为八行八列。
4.一种与权利要求1的岩样处理托盘适配的岩样处理水浴箱,其特征在于:包括箱体,所述箱体具有顶盖,顶盖的上表面形成承接载物盘的承接面,所述顶盖上设有用于与盛物杯适配以使下沉式结构的盛物杯伸入箱体的让位孔,所述载物盘的下表面形成被承接面,被承接面被水浴箱箱体的顶盖上表面承接。
5.根据权利要求4所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述让位孔以矩阵形式分布在顶盖上。
6.根据权利要求5所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述矩阵形式为八行八列。
7.根据权利要求4~6任一项所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述箱体上还设有用于向所述箱体内注入水的注水孔。
8.根据权利要求7所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述顶盖为矩形,所述注水孔设于所述顶盖的角落。
9.根据权利要求8所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述箱体上还设有用于插入温度计的测量孔。
10.根据权利要求9所述的岩样处理水浴箱,其特征在于:所述测量孔设于顶盖的与注水孔同一侧且远离注水孔的角落。
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