[实用新型]用于二硫化钼CVD设备的控制系统有效
申请号: | 201820128339.3 | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN207992784U | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 孙正乾;蒋健伟;谢鹏飞 | 申请(专利权)人: | 无锡盈芯半导体科技有限公司 |
主分类号: | G05B19/05 | 分类号: | G05B19/05 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;刘海 |
地址: | 214187 江苏省无锡市惠*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工控系统 本实用新型 二硫化钼 加热系统 进料装置 进气系统 控制系统 送样系统 真空系统 丝杆 实时采集数据 数据采集网关 远程控制系统 远程维护操作 抗干扰能力 连续化作业 温度传感器 系统自动化 智能流量计 工作效率 监控功能 监控系统 控制丝杆 驱动装置 数据调用 云服务器 加热体 真空泵 出料 进气 加热 转动 终端 智能 保存 | ||
本实用新型涉及一种用于二硫化钼CVD设备的控制系统,其特征是:包括加热系统、真空系统、送样系统、进气系统和远程控制系统;所述加热系统包括工控系统、温度传感器和加热体;所述真空系统包括工控系统、智能工度阀和真空泵;所述送样系统包括工控系统、丝杆、连接在丝杆上的进料装置以及控制丝杆转动以实现进料装置进料和出料的驱动装置;所述进气系统包括工控系统和智能流量计。所述监控系统包括工控系统、数据采集网关、云服务器和终端。本实用新型解决了CVD设备系统的加热、进料、真空、进气的系统自动化控制,系统实时采集数据的功能,数据调用保存,远程维护操作监控功能,可靠性和稳定性高,抗干扰能力强,实现连续化作业,提高工作效率为目的。
技术领域
本实用新型涉及一种用于二硫化钼CVD设备的控制系统,属于控制系统技术领域。
背景技术
现有二硫化钼CVD设备的控制系统用温控仪,或者模块来实现温度控制,送样系统是手动送样不智能,全是手动推动操作。界面是用操作系统PC机+通讯板卡+C#或者C++语言来实现,没有用工业级PLC以及触摸屏控制。由于CVD设备的控制系统用windows操作系统PC机+通讯板卡+C#或者C++语言来实现,系统稳定性不强,抗干扰能力差,程序难以维护程序修改复杂等,并且没有远程维护功能,不能对设备出现的问题工程师不在现场不能远程及时处理设备故障是个瓶颈。这种控制搭配不适合在设备控制上使用。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种用于二硫化钼CVD设备的控制系统,解决了CVD设备系统的加热、进料、真空、进气的系统自动化控制,系统实时采集数据的功能,数据调用保存,远程维护操作监控功能,可靠性和稳定性高,抗干扰能力强,实现连续化作业,提高工作效率为目的。
按照本实用新型提供的技术方案,所述用于二硫化钼CVD设备的控制系统,其特征是:包括监控系统、加热系统、真空系统、送样系统、进气系统和远程控制系统;
所述加热系统包括工控系统、温度传感器和加热体,温度传感器采集加热体的温度反馈给工控系统,工控系统控制加热体;
所述真空系统包括工控系统、智能工度阀和真空泵,工控系统连接真空泵和智能开度阀,智能开度阀连接真空泵;
所述送样系统包括工控系统、丝杆、连接在丝杆上的进料装置以及控制丝杆转动以实现进料装置进料和出料的驱动装置;
所述进气系统包括工控系统和智能流量计,工控系统的控制端连接智能流量计,智能流量计的反馈端连接工控系统的输入端,通过工控系统和智能流量计来实现流量控制。
所述监控系统包括工控系统、数据采集网关、云服务器和终端,工控系统通过数据采集网关连接终端,终端连接云服务器,云服务器连接工控系统。
进一步地,所述加热系统还包括智能温控系统,工控系统与智能温控系统连接,加热体与智能温控系统连接,温度传感器采集加热体的温度并传输至智能温控系统。
进一步地,工控系统包括真空智能模块,真空智能模块用于控制智能开度阀。
进一步地,所述真空系统还包括智能真空传感器,工控系统与智能开度阀、智能真空传感器和真空泵连接,真空泵进行抽真空操作,智能真空传感器进行真空度的测量,工控系统根据真空度控制智能开度阀来实现真空压力控制。
进一步地,所述送样系统包括工控系统、步进电机或调整电机、丝杆和进料装置,工控系统通过速度控制器连接步进电机或调速电机,步进电机或调整电机的输出端连接丝杆,进料装置连接在丝杆上,左限位和右限位由工控系统控制用于限定进料装置的左右移动位置。
进一步地,所述送样系统包括工控系统、丝杆、进料装置和电机,工控系统控制电机,电机的输出端连接丝杆,进料装置螺纹配合在丝杆上,在丝杆的设置有左限位和右限位,左限位和右限位分别由工控系统控制。
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