[实用新型]研磨装置及研磨系统

说明书

本实用新型涉及显示技术领域，提供一种研磨装置及研磨系统，其中研磨装置，包括：研磨组件；配液组件，包括配液主管以及与配液主管连接的若干配液支管，其中若干配液支管与研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。通过固定连接的研磨组件与配液组件，即研磨组件与配液组件之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件向研磨组件提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件上，达到研磨组件能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及在显示领域制造过程中的一种研磨装置及研磨系统。

背景技术

在显示技术领域，平板显示装置具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示装置发展的必然趋势。现有技术中，平板显示装置主要包括:PDP(Plasma displaypanel)、LCD(Liquid crystal displays)、FED(Field emission displays)、OLED(Organiclight-emittingdiode displays)等，特别是LCD、OLED具有体积小、功耗低、制造成本低和无辐射等特点，在当前的平板显示装置市场已经占据了主导地位。

基板的表面精度决定了平板显示装置的光学性能以及加载在基板上的元件的性能与质量。然而，在平板显示装置生产过程中，例如在搬运基板时，基板的表面容易被划伤，从而影响装置性能。

为了改善显示装置的画面显示质量，现有技术中，一般采用平面旋转研磨装置，对基板表面进行研磨、抛光。该研磨装置工作时，通过喷嘴将研磨液喷洒到旋转抛光棉的一侧，研磨液渗入抛光棉内，再利用抛光棉对基板进行旋转研磨。

然而，上述技术方案中，由于喷嘴是固定不动的，在抛光棉的不断旋转过程中就会导致研磨液的分布不均匀，从而影响基板的抛光效果。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的基板研磨时研磨液分布不均导致的研磨效果不佳的缺陷。

鉴于此，本实用新型提供一种研磨装置，包括：

研磨组件；

配液组件，包括配液主管以及与所述配液主管连接的若干配液支管，其中所述若干配液支管与所述研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。

可选地，所述研磨组件包括研磨件、以及设置在所述研磨件外壁，用于支承所述研磨件的连接件。

可选地，所述连接件上开设有若干通孔，所述配液支管嵌入所述通孔与所述研磨组件固定连接。

可选地，所述配液支管靠近所述研磨组件一端端部的喷嘴。

本实用新型还提供一种研磨系统，包括上述任一项所述的研磨装置。

可选地，还包括：

槽体，以及设置在所述槽体上方的固定装置，所述固定装置用于固定待研磨件；

第一支路，与所述槽体连接；

所述第一支路包括第一容器，输送装置以及第一阀门，所述第一容器通过所述输送装置与所述配液组件远离所述研磨组件的一端连接；所述槽体通过所述第一阀门与所述第一容器连接。

可选地，还包括：与所述槽体连接的第二支路；

所述第二支路包括第二容器和第二阀门；所述第二容器通过第二阀门与所述槽体连接。

可选地，还包括三通阀；所述槽体通过所述三通阀分别与所述第一支路和第二支路连接。

可选地，还包括：驱动装置，用于驱动所述研磨装置往返运动。

本实用新型技术方案，具有如下优点：