[实用新型]多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构有效
| 申请号： | 201820151806.4 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN208125944U | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 周东平 | 申请（专利权）人： | 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区娄*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属膜层 黑铬 集成滤光片 多通道 喷砂处理 本实用新型 剩余反射率 隔离结构 漫反射光 消光层 光学透过性能 工作性能 光学薄膜 基片表面 使用寿命 有效实现 漫反射 氧化物 粗糙 隔离 | ||
【权利要求书】：
1.一种多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构，其特征在于，包括设置在基片表面的喷砂处理面，所述喷砂处理面的分布区域与多通道集成滤光片通道间的空白区域相对应；
黑铬金属膜层，所述黑铬金属膜层设置在所述喷砂处理面上，以阻止光线通过；
还包括消光层，所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成，所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上，所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上，所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上，所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。
2.根据权利要求1所述的一种多通道集成滤光片的漫反射光隔离结构，其特征在于，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。
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