[实用新型]一种晶体生长设备监控装置

权利要求书

1.一种晶体生长设备监控装置，其特征在于，包括：触摸屏、给料控制单元、升降控制单元以及气体控制单元，所述触摸屏实现对晶体生长设备运行监视过程、操作过程以及参数的记录过程；触摸屏背板的232接口与所述升降控制单元连接，升降控制单元通过PLC控制升降电机，升降电机驱动升降机构控制晶体生长炉的升降，触摸屏背板的485接口与气体控制单元连接，气体控制单元通过调节氧气阀的开度调节晶体生长炉燃烧所需氧气量，通过调节氢气阀的开度调节晶体生长炉燃烧所需氢气量；触摸屏背板的以太网接口与给料控制单元连接，给料控制单元通过调节给料电机旋转速度和振幅来调节晶体生长过程中的给料量。

2.根据权利要求1所述监控装置，其特征在于，所述给料控制单元包括长轴、振锤以及接料斗，所述长轴安装在给料电机上，长轴上固定安装振锤，给料电机与给料控制单元连接，给料电机驱动长轴转动，长轴转动速度决定振锤转动的速度，所述振锤下方设置接料斗，接料斗的高低位置通过与所述给料控制单元连接的振幅电机控制，通过控制接料斗与振锤的距离调节给料幅度。

3.根据权利要求1所述监控装置，其特征在于，所述升降控制单元包括升降机构，所述升降机构设置在晶体生长炉的下方调节晶体生长炉的位置，由升降控制单元控制，根据晶体生长炉内晶体的体积大小控制升降机构降落速度，所述升降机构的升降区间0-300mm。

4.根据权利要求3所述监控装置，其特征在于，所述升降机构包括丝杆，滑台以及平台，所述丝杆由升降电机驱动旋转，所述滑台一端套装在所述丝杆上，丝杆旋转带动滑台升降，滑台另一端端部设置平台，平台布置在晶体生长炉下方。

5.根据权利要求1所述监控装置，其特征在于，所述给料控制单元的给料速度在1-120次/分钟精准调节。

6.根据权利要求1所述监控装置，其特征在于，所述升降控制单元控制升降机构进行强升、慢升以及自动下降过程，慢速档：升降行程100mm，速度0-30mm/h，快速档：升降行程300mm，速度5mm/s。

7.根据权利要求1所述监控装置，其特征在于，所述气体控制单元控制氧气流量值在0-0.6m³/h范围可调，控制氢气流量值在0-0.6m³/h范围可调。