[实用新型]一种石墨收料装置有效
| 申请号： | 201820186340.1 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN207993818U | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 杨金星 | 申请（专利权）人： | 青岛恒胜石墨有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/56 |
| 代理公司： | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人： | 金迪 |
| 地址： | 266000 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 输送电机 纵向输送 石墨 收料盒 支撑架 气缸 本实用新型 横向支撑架 传送带 收料装置 真空吸盘 传送架 电磁阀 电控柜 下料板 滑轨 气缸连接 依次连接 自动完成 过滤孔 收料 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨收料装置，其特征在于，包括支撑架、电控柜、传送架和收料盒，所述支撑架上设有纵向输送架和输送电机，所述纵向输送架下设有滑轨，所述滑轨上设有若干气缸，所述气缸连接所述输送电机，所述气缸之间设有横向支撑架，所述横向支撑架下设有若干真空吸盘，所述支撑架上还设有依次连接的PLC和电磁阀，所述PLC分别连接所述电控柜和输送电机，所述电磁阀分别连接所述气缸和所述真空吸盘，所述传送架上设有传送带，所述纵向输送架依次对应所述传送带和所述收料盒设置，所述收料盒内设有下料板，所述下料板上设有若干过滤孔。
2.根据权利要求1所述的一种石墨收料装置，其特征在于，所述滑轨与所述气缸之间设有滑块，所述气缸通过所述滑块设在所述滑轨上，所述滑块连接所述输送电机。
3.根据权利要求1所述的一种石墨收料装置，其特征在于，所述纵向输送架的数量至少为2个，2个所述纵向输送架相互对称设置在所述支撑架上。
4.根据权利要求3所述的一种石墨收料装置，其特征在于，所述气缸的数量至少为4个，两两对称分别设在所述纵向输送架下，对称的所述气缸之间设有横向输送架。
5.根据权利要求1所述的一种石墨收料装置，其特征在于，所述传送架下还设有传动电机，所述传动电机分别连接所述电控柜和所述传送带。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛恒胜石墨有限公司，未经青岛恒胜石墨有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820186340.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种COB压模封装装置
- 下一篇：一种刻蚀框具
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
