[实用新型]一种氟化铵腐蚀液制备装置

说明书

一种氟化铵腐蚀液制备装置，包括第一水洗桶，第一水洗桶的上部设有支撑架，支撑架的下部设有液氨储罐，液氨储罐的下端位于出料口，出料口与第一水洗桶的上部连接且与第一水洗桶的内部相通，第一水洗桶的右侧设有第二水洗桶，第二水洗桶与第一水洗桶之间通过第一管道连接，第一管道的下端与第一水洗桶的右端下部，第一管道的上端与第二水洗桶的左端上部连接，第一管道的下端安装第一阀门，第一管道的上端安装第二阀门，第一水洗桶与第二水洗桶的上部分别设有第一电机，第一电机的下端位于输出轴，第一水洗桶与第二水洗桶的内部分别设有第一转轴。第四管道上安装过滤器，过滤器能够进行过滤，使加高纯度的氟化铵腐蚀液进入成品桶内。

技术领域

本实用新型属于电子化学品生产设备领域，具体地说是一种氟化铵腐蚀液制备装置。

背景技术

氟化铵腐蚀液结构式为NH4F·HF，为无色透明液体，能强烈腐蚀含硅的物质，在电子化学品领域，主要用作硅片的腐蚀剂。氟化铵腐蚀液主要由液氨、水和氟化氢反应配置而成，其中液氨采用工业级液氨。由于工业级液氨含有微量的非金属和金属杂质，其直接反应制得的氟化铵腐蚀液其杂质含量高、纯度差，不能达到MOS( 金属- 氧化物- 半导体)标准，即金属杂质含量小于1００ppb，控制1 微米粒径粒子达到SEMI C1C２标准要求，不能满足微电子领域使用要求。

实用新型内容

本实用新型提供一种氟化铵腐蚀液制备装置，用以解决现有技术中的缺陷。

本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种氟化铵腐蚀液制备装置，包括第一水洗桶，第一水洗桶的上部设有支撑架，支撑架的下部设有液氨储罐，液氨储罐的下端位于出料口，出料口与第一水洗桶的上部连接且与第一水洗桶的内部相通，第一水洗桶的右侧设有第二水洗桶，第二水洗桶与第一水洗桶之间通过第一管道连接，第一管道的下端与第一水洗桶的右端下部固定连接，第一管道的上端与第二水洗桶的左端上部连接，第一管道的下端安装第一阀门，第一管道的上端安装第二阀门，第一水洗桶与第二水洗桶的上部分别设有第一电机，第一电机的下端位于输出轴，第一水洗桶与第二水洗桶的内部分别设有第一转轴，每个第一转轴的上端分别穿过第一水洗桶、第二水洗桶的上端与第一电机的输出轴连接，每个第一转轴的下端分别于第一水洗桶、第二水洗桶的底部之间通过轴承连接，第一转轴的外部安装数个均匀分布的第一搅拌叶；第二水洗桶的右侧设有吸收桶，吸收桶的内部设有内桶，第二水洗桶与吸收桶之间通过第二管道连接，第二管道的左端与第二水洗桶的上部连接，第二管道的右端与吸收桶的上部连接且与内桶的内部相通，第二管道的左右两端分别安装第三阀门，吸收桶与内桶之间设有冷水管，内桶的外部开设螺纹槽，冷水管能够缠绕在内桶上且位于螺纹槽内，冷水管的上端穿过吸收桶的上部位于外部，冷水管的下端穿过吸收桶的下部位于外部，冷水管的上端与下端分别安装第六阀门，支撑架的下部设有第一氢氟酸桶、第一纯化水桶，第一氢氟酸桶、第一纯化水桶位于吸收桶的正上部，第一氢氟酸桶、第一纯化水桶的下端出料口分别与吸收桶的上部连接且与内桶的内部相通，支撑架的下部设有第二氢氟酸桶、第二纯化水桶，第二氢氟酸桶、第二纯化水桶位于第一氢氟酸桶、第一纯化水桶的右侧，吸收桶的右侧设有混合罐，吸收桶与混合罐之间通过第三管道连接，第三管道的左端与吸收桶连接且与内桶的内部相通，第三管道的右端与混合罐的上部左端连接，第三管道的左右两端分别安装第四阀门，第二氢氟酸桶、第二纯化水桶底部出料口与混合罐的上部连接，混合罐的上部设有第二电机，混合罐的内部设有第二转轴，第二转轴的上端穿过混合罐与第二电机的输出轴连接，第二转轴的下端与混合罐的内部之间通过轴承连接，第二转轴的外部安装数个均匀分布的第二搅拌叶，混合罐的右侧设有成品桶，成品桶与混合罐之间通过第四管道连接，第四管道的上部设有过滤器，第四管道的左端与混合罐的下部连接，第四管道的右端与成品桶的上部连接，第四管道的左右两端分别安装第五阀门。

如上所述的一种氟化铵腐蚀液制备装置，所述的第二搅拌叶的上部开设数个均匀分布的通孔。

如上所述的一种氟化铵腐蚀液制备装置，所述的成品桶的前部设有检测器。