[实用新型]单腔叠层薄膜沉积设备

权利要求书

1.一种单腔叠层薄膜沉积设备，其包括：

进气装置，含第一出气口，其用于向待处理衬底输送第一反应气体A；第二出气口用于向所述待处理衬底输送第二反应气体B；第三出气口，其用于向所述待处理衬底输送第三反应气体C；第四出气口，用于向所述待处理衬底输送第二反应气体B；

隔离装置，分布在所述第一反应气体与第三反应气体出气口周围，隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化，同时第三反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化；

(AB/AB.../CB/CB...)...式周期复合结构叠层薄膜所需三种气体四个出气口以及分布在第一反应气体出气口与第三反应气体出气口周围的隔离装置组成最小周期复合结构单元，出气口[(AB)x(CB)y]m，x≥1，y≥1，m≥1；

待处理衬底载具，用于装载待处理衬底；

驱动装置，用于驱动所述进气装置进气口和/或者待处理衬底。

2.如权利要求1所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，周期内结构单元(AB)x(CB)y可扩展到三层不同薄膜(AB)x(CB)y(DB)z，四种反应气体出气口[(AB)x(CB)y(DB)z]n，x≥1，y≥1，z≥1，n≥1。

3.如权利要求2所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，周期内结构单元可扩展到j层不同薄膜(j≥4)。

4.如权利要求1所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，所述隔离装置隔离出特定的空间，在该特定空间内，第一反应气体与第二反应气体混合参与在待处理衬底上的沉积反应，在该特定空间外，第一反应气体不参与在待处理衬底上的反应；所述隔离装置同时使第三反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化，在该特定空间内，第三反应气体与第二反应气体混合参与在待处理衬底上的沉积反应，在该特定空间外，第三反应气体不参与在待处理衬底上的反应。

5.如权利要求1或4所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，所述隔离装置为分布在第一反应气体出气口与第三反应气体出气口周围的抽气槽，所述抽气槽与抽气管道连接。

6.如权利要求5所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，所述抽气槽在第一反应气体出气口与第三反应气体出气口设有一组、两组或者多组；抽气槽沿待处理衬底载具与进气装置出气口的相对运动方向的开口宽度为1×10^-3m到1×10^-1m，第一反应气体出气口周围抽气槽开口中心与第一反应气体出气口的间距为2×10^-3m到2×10^-1m，第三反应气体出气口周围抽气槽开口中心与第三反应气体出气口的间距为2×10^-3m到2×10^-1m；抽气槽控制抽速将第一反应气体与第二反应气体的混合反应，第三反应气体与第二反应气体的混合反应限制在各自抽气槽所在的局域空间内。

7.如权利要求1所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，所述驱动装置实现单腔叠层薄膜沉积设备的周期复合结构单元与待处理衬底载具之间的相对运动；驱动装置驱动单腔叠层薄膜沉积设备的周期复合结构单元运动，待处理衬底载具不动；或者驱动装置驱动衬底载具运动，单腔叠层薄膜沉积设备的周期复合结构单元不动；或者驱动装置驱动单腔叠层薄膜沉积设备周期复合结构单元和待处理衬底载具，单腔叠层薄膜沉积设备的周期复合结构单元运动，待处理衬底载具也运动。

8.如权利要求1至4任一项所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，反应气体出气口与待处理衬底之间的间距为1×10^-4m到2×10^-1m。

9.如权利要求1至4任一项所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，反应气体两两之间出气口的间距为1×10^-3m到1m。

10.如权利要求1至4任一项所述的单腔叠层薄膜沉积设备，其特征在于，进气装置进气口与待处理衬底相对运动速率为1×10^-3m/s到10m/s。