[实用新型]深度相机、投影模组及其光源阵列芯片有效

专利信息
申请号: 201820216450.8 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN208076910U 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 王兆民;黄源浩;肖振中 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/48;G02B27/42
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光源阵列 光源 光束阵列 芯片 规则晶格 不规则 子光源 本实用新型 深度相机 投影模组 疏密 衬底 发射 透镜 斑点图案 交错排列 制造成本 结构光 晶格 准直 投影 聚焦 生产
【权利要求书】:

1.一种光源阵列芯片,其特征在于,包括:

衬底;

以规则晶格的形式排列在所述衬底上的光源;所述光源包括多个子光源,多个所述子光源排列构成多个子光源阵列,分别用于发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列;所述子光源阵列由规则晶格上多个位置不同的所述子光源交错排列构成。

2.如权利要求1所述的光源阵列芯片,其特征在于:所述子光源阵列包括第一子光源阵列和第二子光源阵列,分别用于发射第一光束阵列与第二光束阵列。

3.如权利要求2所述的光源阵列芯片,其特征在于:所述衬底包括两个以上面积大小不同的规则晶格。

4.如权利要求3所述的光源阵列芯片,其特征在于:所述第一子光源阵列和所述第二子光源阵列的子光源均设置在第一规则晶格上。

5.如权利要求3所述的光源阵列芯片,其特征在于:所述第一子光源阵列的子光源设置在第一规则晶格上,所述第二子光源阵列的子光源设置在第二规则晶格上,所述第二规则晶格的面积大于所述第一规则晶格。

6.如权利要求2所述的光源阵列芯片,其特征在于:所述第一子光源阵列与所述第二子光源阵列中所述子光源的数量相当。

7.一种投影模组,其特征在于,包括:

如权利要求1-6任一所述的光源阵列芯片,用于发射光束阵列;

透镜,用于准直或聚焦所述光束阵列,并向外发射与所述光束阵列相对应的斑点图案光束。

8.如权利要求7所述的投影模组,其特征在于:还包括衍射光学元件,所述衍射光学元件用于接收通过所述透镜的所述斑点图案光束,经衍射后入射到目标空间以形成复制斑点图案,所述复制斑点图案是由多个所述斑点图案光束组合而成。

9.如权利要求7所述的投影模组,其特征在于:所述斑点图案光束投影至目标空间以形成斑点图案。

10.一种深度相机,其特征在于,包括:

如权利要求1-6任一项所述的光源阵列芯片构成的投影模组,用于向目标空间投射斑点图案化光束;

采集模组,用于采集结构光图案;

处理器,接收所述结构光图案并计算出深度图像。

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