[实用新型]一种AG蚀刻膜有效
申请号: | 201820242207.3 | 申请日: | 2018-02-09 |
公开(公告)号: | CN208232479U | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 周群飞;饶桥兵;陈成 | 申请(专利权)人: | 蓝思科技(长沙)有限公司 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王洋;赵青朵 |
地址: | 410100 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质材料层 复合 蚀刻 介质薄膜材料 本实用新型 高低折射率 非导电 纹路 玻璃基材 叠加效果 电镀 基材 透射 香槟 炫光 背面 褪色 金色 摩擦 | ||
1.一种AG蚀刻膜,其特征在于,包括:
玻璃基材;
复合在所述基材上的第一介质材料层;
复合在所述第一介质材料层上的第二介质材料层;
复合在所述第二介质材料层上的第三介质材料层;
复合在所述第三介质材料层上的第四介质材料层;
复合在所述第四介质材料层上的第五介质材料层;
复合在所述第五介质材料层上的第六介质材料层;
复合在所述第六介质材料层上的第七介质材料层;
复合在所述第七介质材料层上的第八介质材料层;
其中,所述第一介质材料层、第三介质材料层、第五介质材料层和第七介质材料层的折射率独立的选自2.0~2.6;
所述第二介质材料层、第四介质材料层、第六介质材料层和第八介质材料层的折射率独立的选自1.4~1.8。
2.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述玻璃基材为透明玻璃,其正面进行AG蚀刻,背面进行复合膜层;所述透明玻璃正面的粗糙度为0.25~0.35;所述透明玻璃正面的雾度为60~70。
3.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第一介质材料层、第三介质材料层、第五介质材料层和第七介质材料层独立的选自Ti3O5层、Na2O5层或SI3N4层。
4.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第二介质材料层、第四介质材料层、第六介质材料层和第八介质材料层的独立的选自SiO2层、Al2O3层或MgF2层。
5.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第一介质材料层的厚度为122nm~142nm;所述第二介质材料层的厚度为36nm~56nm。
6.根据权利要求5所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第三介质材料层的厚度为109nm~129nm;所述第四介质材料层的厚度为114nm~134nm。
7.根据权利要求6所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第五介质材料层的厚度为41nm~61nm。
8.根据权利要求7所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第六介质材料层的厚度为69nm~89nm。
9.根据权利要求8所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第七介质材料层的厚度为66nm~86nm。
10.根据权利要求9所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第八介质材料层的厚度为9nm~29nm。
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