[实用新型]一种AG蚀刻膜有效

专利信息
申请号: 201820242207.3 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN208232479U 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 周群飞;饶桥兵;陈成 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王洋;赵青朵
地址: 410100 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 介质材料层 复合 蚀刻 介质薄膜材料 本实用新型 高低折射率 非导电 纹路 玻璃基材 叠加效果 电镀 基材 透射 香槟 炫光 背面 褪色 金色 摩擦
【权利要求书】:

1.一种AG蚀刻膜,其特征在于,包括:

玻璃基材;

复合在所述基材上的第一介质材料层;

复合在所述第一介质材料层上的第二介质材料层;

复合在所述第二介质材料层上的第三介质材料层;

复合在所述第三介质材料层上的第四介质材料层;

复合在所述第四介质材料层上的第五介质材料层;

复合在所述第五介质材料层上的第六介质材料层;

复合在所述第六介质材料层上的第七介质材料层;

复合在所述第七介质材料层上的第八介质材料层;

其中,所述第一介质材料层、第三介质材料层、第五介质材料层和第七介质材料层的折射率独立的选自2.0~2.6;

所述第二介质材料层、第四介质材料层、第六介质材料层和第八介质材料层的折射率独立的选自1.4~1.8。

2.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述玻璃基材为透明玻璃,其正面进行AG蚀刻,背面进行复合膜层;所述透明玻璃正面的粗糙度为0.25~0.35;所述透明玻璃正面的雾度为60~70。

3.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第一介质材料层、第三介质材料层、第五介质材料层和第七介质材料层独立的选自Ti3O5层、Na2O5层或SI3N4层。

4.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第二介质材料层、第四介质材料层、第六介质材料层和第八介质材料层的独立的选自SiO2层、Al2O3层或MgF2层。

5.根据权利要求1所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第一介质材料层的厚度为122nm~142nm;所述第二介质材料层的厚度为36nm~56nm。

6.根据权利要求5所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第三介质材料层的厚度为109nm~129nm;所述第四介质材料层的厚度为114nm~134nm。

7.根据权利要求6所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第五介质材料层的厚度为41nm~61nm。

8.根据权利要求7所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第六介质材料层的厚度为69nm~89nm。

9.根据权利要求8所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第七介质材料层的厚度为66nm~86nm。

10.根据权利要求9所述的AG蚀刻膜,其特征在于,所述第八介质材料层的厚度为9nm~29nm。

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