[实用新型]高透高选择性三银玻璃基板及中空玻璃有效
| 申请号： | 201820249529.0 | 申请日： | 2018-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN208071585U | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 董清世;贺一波;余林峰 | 申请（专利权）人： | 信义玻璃工程（东莞）有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B32B17/06;B32B7/12;B32B3/26 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 523935 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化物层 银层 高选择性 三银玻璃 基板 氮化物层 本实用新型 镍铬合金层 玻璃基片 低辐射膜 中空玻璃 玻璃技术领域 透过率 叠层 覆盖 | ||
1.一种高透高选择性三银玻璃基板，包括第一玻璃基片和低辐射膜，其特征在于：所述低辐射膜包括叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、第一镍铬合金层、第二氧化物层、第二银层、第二镍铬合金层、第三氧化物层、第三银层、欠氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述第一玻璃基片的表面。
2.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。
3.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一氧化物层的厚度为5nm～15nm，所述第二氧化物层的厚度为85nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为10nm～15nm。
4.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一银层的厚度为5nm～7nm，所述第二银层的厚度为16nm～18nm，所述第三银层的厚度为5nm～18nm。
5.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一镍铬合金层的厚度为8nm～10nm，所述第二镍铬合金层的厚度为4nm～5nm。
6.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一玻璃基片的厚度为10mm～12mm。
7.根据权利要求1所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述第一玻璃基片为白玻或者色玻。
8.根据权利要求1～7任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述欠氧化物层由金属物质在氧气流量为350sccm～400sccm的环境下氧化形成。
9.一种中空玻璃，其特征在于：包括中空层、第二玻璃基片和权利要求1～7任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，所述中空层和所述第二玻璃基片依序粘接固定于所述第二氮化物层的表面上。
10.根据权利要求9所述的中空玻璃，其特征在于：所述中空玻璃的遮阳系数为0.35～0.37，透过率为60％～64％。
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