[实用新型]一种小型真空磁控溅射镀镆实验机

说明书

一种小型真空磁控溅射镀镆实验机，涉及一种镀镆实验机，所述镀镆机包括真空室、支撑真空室的机台；真空室的上端法兰连接升降样品台总成，下端法兰连接磁控溅射靶总成；真空室的前端设有带观查窗的门，真空室的后端设有涡轮分子泵的接口；真空室的左侧设有一个磁力传递杆，磁力传递杆的前端安有机械手；真空室的右侧设有一个过渡仓，过渡仓与真空手套箱相连接，过渡仓前端设有一个过渡仓门。本实用新型把真空手套箱和小型真空磁控溅射镀镆机连接在一起，利用真空手套箱内惰性气体保护基片不氧化、不受污染，提高镀膜质量，保证实验的成功率。

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀镆实验设备，特别是涉及一种小型真空磁控溅射镀镆实验机。

背景技术

真空磁控溅射技术作为一种镀膜方法，可以制备各种硬质膜、金属膜、 半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等纳米级的单层及多层功能膜。理论上，凡是可以制成靶材的材料都可以用磁控溅射的方式镀膜，是现代材料学研究的理想设备，但是对于镀镆基片的清洁工作，一直以来是困扰研究者的一个难题，因为空气中的灰尘、水气，无时无刻的不在污染基片，即使是我们赖以生存的氧气，也会使一些基片表面发生氧化，使薄膜的附着能力变差，达不到实验要求等一系列问题，通常解决这一问题的做法是在洁净间内进行实验，但是，建造、运行一个洁净间花费十分巨大，并且进出程序繁琐、麻烦。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种小型真空磁控溅射镀镆实验机。本实用新型把真空手套箱和小型真空磁控溅射镀镆机连接在一起，利用真空手套箱内惰性气体保护基片不氧化、不受污染，提高镀膜质量，保证实验的成功率。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种小型真空磁控溅射镀镆实验机，所述镀镆机包括真空室、支撑真空室的机台；真空室的上端法兰连接升降样品台总成，下端法兰连接磁控溅射靶总成；真空室的前端设有带观查窗的门，真空室的后端设有涡轮分子泵的接口；真空室的左侧设有一个磁力传递杆，磁力传递杆的前端安有机械手；真空室的右侧设有一个过渡仓，过渡仓与真空手套箱相连接，过渡仓前端设有一个过渡仓门。

所述的一种小型真空磁控溅射镀镆实验机，所述真空室的左侧设有磁力传递杆，磁力传递杆的前端安有机械手。

所述的一种小型真空磁控溅射镀镆实验机，真空室的右侧设有过渡仓，过渡仓与真空手套箱相连接，过渡仓前端设有一个过渡仓门。

本实用新型的优点与效果是：

本实用新型把真空手套箱和小型真空磁控溅射镀镆机连接在一起，利用真空手套箱内惰性气体保护基片不氧化、不受污染，提高镀膜质量，保证实验的成功率，同时提供一个洁净的平台，用来存储各类易氧化的、或要求无尘的各种固态物品。

附图说明

图1为本实用新型的主视图；

图2为本实用新型的左视图；

图3为本实用新型俯视图（半剖）；

图中部件名称：1磁力传递杆、2机台、3升降样品台总成、4真空手套箱、5磁控溅射靶总成、6真空室、7带观查窗的门、8分子泵接口、9机械手、10过渡仓、11过渡仓门。

具体实施方式

下面结合附图所示实施例对本实用新型进行详细说明。