[实用新型]一种硅胶热烫转移刻字膜

说明书

本实用新型属于硅胶制成品转印成型技术领域，特别是一种硅胶热烫转移刻字膜，包括PET底层，依次设置在PET底层上的离型面、硅胶涂层、架桥A层、架桥B层以及热溶胶离型膜，所述离型面的厚度为1.5um～2.5um，所述硅胶涂层的厚度为8～20um，所述架桥A层的厚度2～4um，其容重为0.5～3g/cm³,所述架桥B层的厚度2～4um，其容重为1～3g/cm³,所述热溶胶离型膜的厚度为0.05～0.25um。本实用新型图案或文字就在制品上，图案或文字不变形，清晰度高，耐磨好。同时，采用架桥A层和架桥B层采用网架结构，粘结稳定性好，耐水洗，不易脱落。

技术领域

本实用新型涉及硅胶制成品转印成型技术领域，尤其是一种硅胶热烫转移刻字膜。

背景技术

目前有的技术是先把硅胶制品成型出来后，再把图案或文字用专用治具热转印方式烫印上去。这种方式主要存在如下缺点：1.表面图案或文字不够清晰。2.不耐水洗，容易造成脱落。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的是提供一种硅胶热烫转移刻字膜。

其采用的技术方案是：

一种硅胶热烫转移刻字膜，包括PET底层，依次设置在PET底层上的离型面、硅胶涂层、架桥A层、架桥B层以及热溶胶离型膜，所述离型面的厚度为1.5um～2.5um，所述硅胶涂层的厚度为8～20um，所述架桥A层的厚度2～4um，其容重为0.5～3g/cm³,所述架桥B层的厚度2～4um，其容重为1～3g/cm³,所述热溶胶离型膜的厚度为0.05～0.25um。

进一步地，所述架桥A层为网状结构。

进一步地，所述架桥B层为网状结构。

本实用新型的有益效果为：本实用新型图案或文字就在制品上，图案或文字不变形，清晰度高，耐磨好。同时，采用架桥A层和架桥B层采用网架结构，粘结稳定性好，耐水洗，不易脱落。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的工艺流程图。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型，在此本实用新型的示意性实施例以及说明用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。

本实用新型中对出现的术语的解释为：PET为聚对苯二甲酸类塑料。

参照图1，一种硅胶热烫转移刻字膜，包括PET底层1，依次设置在PET底层1上的离型面2、硅胶涂层3、架桥A层4、架桥B层5以及热溶胶离型膜6，所述离型面2的厚度为1.5um～2.5um，所述硅胶涂层3的厚度为8～20um，所述架桥A层4的厚度2～4um，其容重为0.5～3g/cm³,所述架桥B层5的厚度2～4um，其容重为1～3g/cm³,所述热溶胶离型膜6的厚度为0.05～0.25um。

所述架桥A层 4为网状结构。

所述架桥B层5为网状结构。

参照图2,以下为本实用新型提供的制备工艺，

包括如下步骤：1）PET电晕面涂离型面：将PET进行电晕处理，在其电晕面采用环保树脂材料SS521进行处理，处理后的图层与PET电晕面分离，表面为哑面，涂层厚度2um；

2）一次涂布烘烤：采用烘烤涂布机进行烘烤，烘烤涂布的速度是12m/min，涂布烘烤温度140℃/15min

；3）离型面上刮涂硅胶层：采用环保硅胶SS513在离型面上进行2次加工涂层，涂层厚度15um；