[实用新型]光阻容器及涂布机光阻供应系统

权利要求书

1.一种光阻容器，其特征在于，该光阻容器包括：

漏斗式壳体(1)，该漏斗式壳体(1)用于储存光阻，所述漏斗式壳体(1)具有设置在顶部的开口和设置在底部的出液口；

动力装置，该动力装置用于封闭所述开口并对所述储存在所述漏斗式壳体(1)内的光阻加压以推动所述光阻从所述出液口排出；

涂布管路，该涂布管路用于输送光阻并连接于所述出液口；

流量计(2)，该流量计(2)用于监测光阻流量，所述流量计(2)设置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；

控制单元，该控制单元用于控制所述动力装置操作，所述控制单元与所述流量计(2)电连接。

2.根据权利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述动力装置为气缸，所述气缸包括缸体(3)和设置在所述缸体(3)内的活塞杆(4)，所述缸体(3)与所述漏斗式壳体(1)呈密封的一体设置。

3.根据权利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述漏斗式壳体(1)包括圆筒部和设置在所述圆筒部下方的锥斗部，所述圆筒部的顶部完全开放以形成所述开口，所述动力装置包括与所述开口形状适配的挡板(5)、与所述挡板(5)相连的连杆(14)以及驱动该连杆(14)往复运动的驱动件。

4.根据权利要求3所述的光阻容器，其特征在于，所述圆筒部包括呈阶梯状同轴设置的上桶体和下桶体，所述上桶体的直径小于所述下桶体的直径，所述上桶体的顶部完全开放以形成所述开口，所述下桶体的底部与所述锥斗部相连。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的光阻容器，其特征在于，所述漏斗式壳体(1)为透明壳体。

6.一种涂布机光阻供应系统，包括依次连接的光阻容器、排泡装置(6)、注射泵(7)以及喷嘴(9)，所述注射泵(7)用于将经所述排泡装置(6)处理后的光阻泵送至所述喷嘴(9)，所述光阻容器为根据权利要求1-5中任意一项所述的光阻容器。

7.根据权利要求6所述的涂布机光阻供应系统，其特征在于，所述涂布机光阻供应系统包括多个所述光阻容器，每个所述光阻容器分别与所述排泡装置(6)相连。

8.根据权利要求6所述的涂布机光阻供应系统，其特征在于，所述光阻容器和排泡装置(6)之间设有用于缓存光阻的中间容器(10)。

9.根据权利要求6所述的涂布机光阻供应系统，其特征在于，所述涂布机光阻供应系统包括用于监测所述注射泵(7)的压力的压力表(8)。

10.根据权利要求6-9中任意一项所述的涂布机光阻供应系统，其特征在于，所述涂布机光阻供应系统包括一次过滤器(11)和二次过滤器(12)，所述一次过滤器(11)设置在所述排泡装置(6)和所述注射泵(7)之间，所述二次过滤器(12)设置在所述注射泵(7)和所述喷嘴(9)之间。