[实用新型]一种提高利用率的旋转硅铝靶组件

说明书

本实用新型公开了一种提高利用率的旋转硅铝靶组件，涉及磁控溅射、金属变形加工和装配技术领域，旨在解决安装过程中旋转靶材端部易出现变形而安装不上的问题，其技术要点在于：包括管体、端头和靶材，所述靶材沿所述管体轴向方向包裹在管体外周，所述管体两端部分别伸出所述靶材的两端，所述端头内径固定套设于所述管体端部，所述管体端部套设具有弹性的环形衬套，所述环形衬套与所述管体一体设置，并且所述环形衬套和所述端头之间通过螺纹连接，所述环形衬套的外径大于所述端头的内径，本实用新型使得靶组件结合部的连接强度增大，进而保证了生产的稳定性和连续性，并提高了靶材的利用率，满足节能环保的生产要求。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种提高利用率的旋转硅铝靶组件。

背景技术

磁控溅射镀膜是目前镀膜行业应用广泛的镀膜沉积工艺，溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子枪用氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。而随着表面镀膜技术的不断发展，溅射靶材这一具有高附加值的功能材料的需求量也逐年增多，因此需要不断提高溅射靶材的利用效率，减少靶材的消耗，降低成本，保护环境。

现有公告号为CN204281849U的中国专利公开了一种旋转靶材，该旋转靶材包括管状结构的管体和环状结构的端头，所述端头的内径固定地套设于所述管体的端部，所述管体的端部外表面光滑，所述端 头的内表面光滑，所述管体的端部和所述端头之间为过盈配合。该实用新型通过连接的方式增加靶材端头的厚度，使端头和管体能够同时被溅射完，提高靶材的利用率。

但是由于上述旋转靶材的管体为镍铬材质，其自身强度不高，且旋转靶材端部管壁较薄，采用过盈配合的连接方式，易出现旋转靶材在安装过程中出现变形而安装不上的情况，从而需要更换新的旋转靶材，造成极大浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种提高利用率的旋转硅铝靶组件，以保证生产的稳定性和连续性，并提高靶材的利用率，满足节能环保的生产要求。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种提高利用率的旋转硅铝靶组件，包括管体、端头和靶材，所述靶材沿所述管体轴向方向包裹在管体外周，所述管体两端部分别伸出所述靶材的两端，所述端头内径固定套设于所述管体端部，所述管体端部套设具有弹性的环形衬套，所述环形衬套与所述管体一体设置，并且所述环形衬套和所述端头之间通过螺纹连接，所述环形衬套的外径大于所述端头的内径。

通过采用上述技术方案，在管体端部套设具有弹性的环形衬套，使之与管体一体设置，并确保环形衬套的外径要大于端头的内径，随后将环形衬套与端头螺纹连接以固定住管体，从而避免靶材从连接端脱离，同时利用环形衬套的弹性效果增大螺纹处的连接强度，以此避免靶组件的结合部开裂的现象，从而保证整个生产的稳定性和连续性，提高靶材的利用率，满足节能环保的生产要求。

进一步地，所述端头内径不大于所述靶材使用完的最小外径，所述环形衬套在管体径向上的厚度不大于所述靶材的壁厚。

通过采用上述技术方案，使端头内径不大于靶材使用完的最小外径，并使环形衬套在管体径向上的厚度不大于靶材的壁厚，从而在加强靶组件结合部强度的基础上，不会影响靶材安装后的重复正常使用，而且环形衬套适当的厚度可起到一定的密封效果。

进一步地，所述环形衬套由硫化橡胶制成，并且所述环形衬套表面设有耐摩擦复合。

通过采用上述技术方案，选用硫化橡胶制成环形衬套，其制作工艺要求无飞边，无气泡、裂纹、分层、剥离等缺陷，具备强度大，弹性效果好，不易磨损等优点，并在环形衬套表面涂覆有一层耐摩擦复合镀膜，不仅能避免工作过程中产生的摩擦力损坏环形衬套，还防滑防移位，使得螺纹连接更加牢靠，以确保生产的安全持续性。

进一步地，所述环形衬套内设有若干个空腔，所述空腔内沿环形衬套径向放置有缓冲弹簧。