[实用新型]一种UV纳米涂胶设备

说明书

本实用新型公开了一种UV纳米涂胶设备，包括安装座，位于所述安装座上设有涂胶装置和设置在安装座上的传送带，所述涂胶装置设置在传送带的正上方，所述涂胶装置包括安装架，位于所述安装架上设置有胶水存放容器、匀胶铁棍、匀胶胶辊和传递胶辊，所述传递胶辊位于匀胶铁棍和匀胶胶辊之间，其通过匀胶铁棍、匀胶胶辊和传递胶辊的设置可以有效的将胶水涂抹在承印物上，这样便于后续工序的操作，进而提高了产品的合格率，胶水存放容器上设有胶水流量控制器，这样便于胶水定量的洒在传递胶辊上，进而便于传递胶辊上的胶水均匀涂抹在匀胶铁棍和匀胶胶辊上，从而使胶水能在承印物上均匀涂胶。

技术领域

本实用新型涉及纳米加工技术领域，更具体地说，涉及一种涂胶装置。

背景技术

纳米压印技术是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由StephenYChou教授在1995年率先提出，这是一种不同于传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为：不使用光线或者辐照使光刻感光成型，而是直接在硅衬底或者其他衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形纳米压印技术是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由StephenYChou教授在1995年率先提出，这是一种不同于传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为：不使用光线或者辐照使光刻感光成型，而是直接在硅衬底或者其他衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。

现有技术中，纳米光刻压印光刻技术包括滚动型纳米压印装置和平板对辊型纳米压印装置，二者在使用时，均需要使用纳米压印胶涂布装置将光刻胶涂覆在设备上。目前在胶涂时，一般采用直接在承印物上洒上胶水然后通过胶辊进行均匀涂胶，但是由于洒上的胶水的量不一样，只靠单独的胶辊并不能使承印物上的胶水涂均匀，从而使后续工序不能很好的快速有效的工作，进而大大降低了产品的合格率，因此有必要进行改进。

实用新型内容

本实用新型所要解决的问题是提供一种UV纳米涂胶设备，其通过匀胶铁棍、匀胶胶辊和传递胶辊的设置可以有效的将胶水涂抹在承印物上，这样便于后续工序的操作，进而提高了产品的合格率。

为达到上述目的，本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是：一种UV纳米涂胶设备，包括安装座，位于所述安装座上设有涂胶装置和设置在安装座上的传送带，所述涂胶装置设置在传送带的正上方，所述涂胶装置包括安装架，位于所述安装架上设置有胶水存放容器、匀胶铁棍、匀胶胶辊和传递胶辊，所述匀胶铁棍位于传递胶辊和匀胶胶辊之间。

进一步，所述胶水存放容器上设有胶水流量控制器，所述胶水流量控制器位于胶水存放容器的出口端。

进一步，还设有第一压力控制器、第二压力控制器、第三压力控制器、第四压力控制器和第五压力控制器，所述第一压力控制器与匀胶铁棍连接，所述第二压力控制器和第三压力控制器与匀胶胶辊连接，所述第四压力控制器和第五压力控制器与传递胶辊连接。

进一步，所述第一压力控制器、第二压力控制器和第四压力控制器为上下压力精密控制器，所述第三压力控制器和第五压力控制器为左右压力精密控制器。

进一步，所述安装座上还设有光纤传感器，所述光纤传感器分别设置在安装座两端，所述涂胶装置的位置位于两个光纤传感器之间。

进一步，还设有物体重量感应器，所述物体重量感应器设置在传送带下方。

与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有如下优点：

1.本实用新型所提供的一种UV纳米涂胶设备，其通过匀胶铁棍、匀胶胶辊和传递胶辊的设置可以有效的将胶水涂抹在承印物上，这样便于后续工序的操作，进而提高了产品的合格率。

2.胶水存放容器上设有胶水流量控制器，这样便于胶水定量的洒在传递胶辊上，进而便于传递胶辊上的胶水均匀涂抹在匀胶铁棍和匀胶胶辊上，从而使胶水能在承印物上均匀涂胶。