[实用新型]反应腔室部件结构及反应腔室

说明书

本实用新型提供一种反应腔室部件结构，包括部件本体和氧化膜层，其中，部件本体采用5系铝合金材料制成；氧化膜层通过部件本体氧化形成。本实用新型还提供反应腔室。本实用新型可提高反应腔室部件的抗腐蚀性，从而可以提高反应腔室的使用寿命。

技术领域

本实用新型属于微电子加工技术领域，具体涉及一种反应腔室部 件结构及反应腔室。

背景技术

铝合金具有较高的强度、良好的焊接性，阳极氧化膜具有良好的 耐腐蚀性，自从上世纪80年代开始，已被广泛的应用于生产等离子体 反应室部件。由于铝合金中含有大量的合金元素，如Mg、Cu、Zn、 Mn、Fe、Si等，在等离子体刻蚀过程中，反应腔室内使用反应气体包 括CF₄/O₂、NF₃、Cl₂、CH₄/Ar等，生成大量的Cl基、F基等活性自由 基，会与这些合金元素发生反应生产金属化合物颗粒，这些颗粒易造 成反应腔室部件结构表面的金属污染，严重地影响器件的电性能；此 外反应室内金属颗粒很难清洗，严重时甚至造成整个反应腔室的失效。

目前，反应腔室部件结构通常选用诸如A6061等的6系铝合金加 工而成，且采用硫酸硬质阳极氧化在部件的表面形成一层氧化铝薄膜， 以防止等离子体对反应腔室部件结构腐蚀。在实际应用中发现：该反 应腔室部件结构在等离子体轰击的环境下，还是很容易造成腐蚀，即， 对腔室造成金属污染。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出 了一种反应腔室部件结构及反应腔室，可提高反应腔室部件的抗腐蚀 性，从而可以提高反应腔室的使用寿命。

为解决上述问题之一，本实用新型提供了一种反应腔室部件结构， 包括部件本体和氧化膜层，其中：所述部件本体采用5系铝合金材料 制成；所述氧化膜层通过部件本体氧化形成。

优选地，在所述氧化膜层上形成有陶瓷层。

优选地，所述氧化膜层表面具有预设粗糙度。

优选地，所述预设粗糙度的范围在3.2μm～6.3μm。

优选地，所述氧化铝薄膜的厚度范围在50μm～60μm。

优选地，所述陶瓷层包括：氧化钇或者氧化锆。

优选地，所述陶瓷层的厚度范围在50μm～200μm。

本实用新型还提供一种反应腔室，包括上述提供的反应腔室部件 结构。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型中，克服了现有技术中仅考虑需要反应腔室部件结构 的强度更高而采用6系铝合金的技术偏见，采用了5系铝合金，由于5 系铝合金为加工硬化型Al-Mg铝合金(例如A5052)，其中Si元素极 少，因此，不易发生晶界腐蚀，从而可以提高反应腔室部件的抗腐蚀 性。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的反应腔室部件结构的结构示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面 结合附图来对本实用新型提供的反应腔室部件结构及反应腔室进行详 细描述。

在此说明，下文中的反应腔室部件结构包括但不限于：反应腔室 的内壁、设置在内壁上的内衬、调整支架、静电卡盘等等。

实施例1

图1为本实用新型实施例提供的反应腔室部件结构的结构示意图；请参阅图1，本实用新型实施例1提供一种反应腔室部件结构，包括部件本体1和氧化膜层11，其中，所述部件本体1采用5系铝合金材料制成；所述氧化膜层11通过部件本体1氧化形成。