[实用新型]一种无掩模光刻系统

权利要求书

1.一种无掩模光刻系统，其特征在于，包括：

二维载物平台(3)，所述二维载物平台(3)用于放置待曝光的感光基板/片(2)，所述感光基板/片(2)以相对于二维载物平台(3)固定的方式设于所述二维载物平台(3)；

无掩模曝光装置(1)，所述无掩模曝光装置(1)包括空间光调制器和镜头组件，所述镜头组件设在所述空间光调制器与所述感光基板/片(2)之间，用于改变所述空间光调制器投射下来的光影图像的像素分辨率，实现不同线宽线距图像的曝光；

二维载物平台运动检测装置(8)，所述二维载物平台运动检测装置(8)用于检测所述二维载物平台(3)在垂直于所述空间光调制器的光轴(110)的平面内的二维运动信息；

同步运动控制装置(6)，所述同步运动控制装置(6)用于控制所述二维载物平台(3)沿预设扫描运动方向匀速运动和基于所述二维载物平台(3)的二维运动信息控制所述空间光调制器开闭动作，将需要曝光的图分成多条等宽的图形进行分次曝光；以及

用于将待用的远心镜头切换到所述光轴(110)上的切换装置(7)。

2.如权利要求1所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述镜头组件包括高倍率远心镜头(15)和低倍率远心镜头(16)；

所述切换装置(7)包括：

固定移动基板(71)，所述固定移动基板(71)固定设置在所述镜头组件与所述感光基板/片(2)之间；

移动基板(72)，所述移动基板(72)上沿垂直于所述光轴(110)的方向上依序布置各所述远心镜头；和

驱动设备(75)，所述驱动设备(75)设在所述移动基板(72)与所述固定移动基板(71)之间，所述移动基板(72)通过所述驱动设备可滑动地连接到所述固定移动基板(71)。

3.如权利要求2所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述固定移动基板(71)设沿垂直于所述光轴(110)的方向布置的导轨(74)；

所述移动基板(72)设可沿所述导轨(74)运动的滑块(76)；

所述驱动设备(75)包括气缸(751)，所述气缸(751)一端固定连接到所述固定移动基板(71)，另一端固定连接到所述移动基板(72)。

4.如权利要求3所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述切换装置(7)还包括：

两限位件(73)，所述两限位件(73)分别设在所述固定移动基板(71)两侧的预设位置，用于固定所述移动基板(72)，将所述远心镜头对齐所述光轴(110)。

5.如权利要求1至4中任一项所述的无掩模光刻系统，其特征在于，还包括：

轴向间距检测装置(4)，所述轴向间距检测装置(4)用于检测所述无掩模曝光装置(1)与所述感光基板/片(2)之间在所述光轴(110)上的轴向间距信息，并输出；和

轴向间距调整装置(5)，所述轴向间距调整装置(5)用于基于所述轴向间距信息，控制所述无掩模曝光装置(1)沿所述光轴(110)运动，使所述感光基板/片(2)的感光表面保持在所述无掩模曝光装置(1)的焦平面。

6.如权利要求5所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述轴向间距检测装置(4)包括：

非接触式距离传感器(41)，所述非接触式距离传感器(41)用于检测所述无掩模曝光装置(1)与所述感光基板/片(2)之间的轴向间距信息，并输出给所述轴向间距调整装置(5)；

光路方向调整元件(42)，所述光路方向调整元件(42)设在所述无掩模曝光装置(1)的出光口与所述非接触式距离传感器(41)的入光口之间，用于将所述非接触式距离传感器(41)的光路调整到所述光轴(110)上。

7.如权利要求6所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述光路方向调整元件(42)包括反射棱镜；

所述非接触式距离传感器(41)布置在所述镜头组件的侧面，所述反射棱镜设在所述镜头组件与感光基板/片(2)之间；

所述非接触式距离传感器(41)发出的激光经由反射棱镜反射的反射光线投射到所述感光基板/片(2)的感光表面，且所述反射光线位于所述光轴(110)上。

8.如权利要求1所述的无掩模光刻系统，其特征在于，所述二维载物平台(3)通过气浮的方式设在固定基座上。