[实用新型]自适应压力调节结构、供水供墨系统、胶印机和胶印线有效
申请号: | 201820330875.1 | 申请日: | 2018-03-09 |
公开(公告)号: | CN207931263U | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 李乾宁 | 申请(专利权)人: | 西安精密印刷机械研究院有限公司 |
主分类号: | B41F7/02 | 分类号: | B41F7/02;B41F7/20;B41F31/34;B41F7/40 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 贾振勇 |
地址: | 710000 陕西省西安市高新区*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固定辊 浮动辊 自适应 胶印机 压力调节结构 调节装置 供墨系统 胶印线 摆动 本实用新型 驱动摆臂 印刷设备 供水 摆臂 浮动 移动 | ||
1.一种自适应压力调节结构,应用于胶印机,所述胶印机至少包括:相互平行地设于胶印机机架上的第一固定辊、第二固定辊,以及一浮动辊,其特征在于,所述自适应压力调节结构包括:
浮动辊支座,所述浮动辊支座上设有用于支撑及支持所述浮动辊移动的轨道;
安装有所述浮动辊支座的摆臂;
调节装置,所述调节装置通过驱动所述摆臂摆动,使所述浮动辊支座上的浮动辊与所述第一固定辊、第二固定辊接触,并通过所述浮动辊在所述浮动辊支座上的移动,自适应与所述第一固定辊及第二固定辊间的压力。
2.如权利要求1所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述浮动辊支座为快卸式结构。
3.如权利要求1所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述浮动辊两端均设置有所述自适应压力调节结构。
4.如权利要求3所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述浮动辊两端的自适应压力调节结构上的调节装置可独立进行调节。
5.如权利要求1所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述自适应压力调节结构还包括用于限制所述摆臂摆动范围的限位块。
6.如权利要求1所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述调节装置为手动调节装置或自动调节装置。
7.如权利要求1所述的自适应压力调节结构,其特征在于,所述摆臂的转动轴线与所述第一固定辊或第二固定辊同轴。
8.一种供水供墨系统,其特征在于,所述供水供墨系统包括:
用于供水供墨的辊组;
用在所述辊组上,如权利要求1-7任意一项所述的自适应压力调节结构。
9.一种胶印机,其特征在于,所述胶印机包括:印刷装置;以及
与所述印刷装置配合,如权利要求8所述的供水供墨系统。
10.一种胶印线,其特征在于,所述胶印线包括:
用于向胶印线供料的放料装置;
用于对待印材料进行印刷,形成印刷品的胶印机;
用于收集所述印刷品的收集装置;
所述胶印机如权利要求9所述。
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