[实用新型]一种大视场扫描成像光学系统有效
申请号: | 201820343001.X | 申请日: | 2018-03-13 |
公开(公告)号: | CN207937636U | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 侯方超 | 申请(专利权)人: | 杭州艾芯智能科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/08 | 分类号: | G02B6/08;G02B6/32 |
代理公司: | 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 11514 | 代理人: | 张绍磊 |
地址: | 310051 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 导光件 光阑 成像透镜组 光探测器 成像光学系统 大视场扫描 本实用新型 反射杂光 光阑设置 光学成像 目标物体 出光口 感光面 接收光 滤光片 入光口 透镜组 排布 视场 行进 | ||
本实用新型涉及光学成像领域,一种大视场扫描成像光学系统,包括成像透镜组、光阑、导光件和光探测器;所述成像透镜组、光阑、导光件和光探测器沿接收光的行进方向依次排布,所述光阑设置于成像透镜组的像面上,所述导光件的入光口设置于光阑远离透镜组的一侧,所述光探测器的感光面到导光件的出光口的距离为0到2毫米。本实用新型提供的大视场扫描成像光学系统,结构简单,通过采用成像透镜组、光阑、导光件和光探测器相结合增加了接收视场,同时利用滤光片和光阑抑制了非目标物体反射杂光的干扰。
技术领域
本实用新型涉及光学成像领域,尤其是一种大视场扫描成像光学系统。
背景技术
基于点扫描的光学成像系统,如基于MEMS的激光雷达,制造成本低,扫描速度快。问题在于MEMS本身尺寸小,若用于同轴接收光信息,则相比机械旋转扫描或大面积振镜扫描,接收能量非常低,通常采用非共轴接收光信息。而单点光探测器的光接收面积小,接收信号强度低。MEMS雷达提高接收信号强度第一种方法是增大MEMS的镜面面积,这样会使成本大大提高,同时大镜面的平面度降低,扫描频率下降。另外一种方法是采用聚焦透镜将接收光聚焦至探测器孔或光纤端,但无法接收离轴反射光信号,这会限制雷达系统的接收角度。提升接收角的方法是采用阵列探测器,成本高并增加了电路复杂度;或者使用大感光面积探测器,但是会增大等效噪声功率同时面积增大器件电容增加,响应时间变长,无法满足快速测量及高精度测量。
实用新型内容
针对现有技术中的缺陷,本实用新型提供一种大视场扫描成像光学系统,结构简单通过采用成像透镜组、光阑、导光件和光探测器相结合增加了接收视场,同时利用滤光片和光阑抑制了非目标物体反射杂光的干扰。
为了实现上述目的,本实用新型提供的一种大视场扫描成像光学系统,包括成像透镜组、光阑、导光件和光探测器;所述成像透镜组、光阑、导光件和光探测器沿接收光的行进方向依次排布,所述光阑设置于成像透镜组的像面上,所述导光件的入光口设置于光阑远离透镜组的一侧,所述光探测器的感光面到导光件的出光口的距离为0到2毫米。
作为本申请的一种优选的实施方式,所述成像透镜组包括第一平凸镜、凹透镜、滤光片、第二平凸镜和第三平凸镜;所述第一平凸镜、凹透镜、第一滤光片、第二平凸镜和第三平凸镜沿接收光的行进方向依次排布。
作为本申请一种优选的实施方式,所述成像透镜组包括凸透镜、平凹透镜、第二滤光片、第四平凸镜和第五平凸镜;所述凸透镜、平凹透镜、第二滤光片、第四平凸镜和第五平凸镜沿接收光的行进方向依次排布。
作为本申请一种优选的实施方式,所述光阑的通光口的形状和尺寸与成像透镜组的视场大小相匹配。
作为本申请一种优选的实施方式,所述导光件入光口的尺寸大于光阑通光口,所述导光件出光口尺寸与光探测器感光面尺寸接近。
作为本申请一种优选的实施方式,所述导光件为复合抛物面聚光器;所述复合抛物面聚光器的入光口的直径为光阑通光口最大尺寸的100%-110%,所述复合抛物面聚光器的出光口直径为光探测器感光面最大尺寸的80%-500%。
作为本申请一种优选的实施方式,所述导光件为锥形光纤束;所述锥形光纤束的入光口的直径为光阑通光口最大尺寸的100%-110%,所述锥形光纤束的出光口直径为光探测器感光面积的80%-500%。
作为本申请一种优选的实施方式,所述导光件为一分多光纤束,所述一分多光纤束的入光口的直径为光阑通光口最大尺寸的100%-110%,所述一分多光纤束的出光口到光探测器的感光面的距离为0到2毫米。
本实用新型的有益效果是:本实用新型提供一种大视场扫描成像光学系统,结构简单通过采用成像透镜组、光阑、导光件和光探测器相结合增加了接收视场,同时利用滤光片和光阑抑制了非目标物体反射杂光的干扰。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州艾芯智能科技有限公司,未经杭州艾芯智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820343001.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。