[实用新型]一种单晶金刚石双面抛光的装置有效
| 申请号： | 201820348134.6 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN208342541U | 公开（公告）日： | 2019-01-08 |
| 发明（设计）人： | 武迪;郑大平;朱瑞;杨明;徐元成 | 申请（专利权）人： | 湖北碳六科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 杨采良 |
| 地址： | 443400 湖北省宜*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铸铁盘 单晶金刚石 双面抛光 单晶金刚石产品 旋转方向相反 本实用新型 时间缩短 研磨 平行度 旋转轴 研磨盘 抛光 改良 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种单晶金刚石双面抛光的装置，其特征在于：包括上铸铁盘和下铸铁盘，所述上铸铁盘和下铸铁盘均可以绕着各自的旋转轴旋转，二者相对的面是平面，单晶金刚石位于相对的平面之间；所述上铸铁盘和下铸铁盘的旋转方向相反，转速相同。
2.根据权利要求1所述的一种单晶金刚石双面抛光的装置，其特征在于：所述上铸铁盘和下铸铁盘相对的平面上设有一定长度和深度的上研磨槽和下研磨槽，所述上研磨槽和下研磨槽正好相对，单晶金刚石位于所述上研磨槽和下研磨槽之间。
3.根据权利要求2所述的一种单晶金刚石双面抛光的装置，其特征在于：所述上研磨槽和下研磨槽的剖面尺寸相同，长度方向沿着各自铸铁盘的圆周方向。
4.根据权利要求3所述的一种单晶金刚石双面抛光的装置，其特征在于：所述上研磨槽和下研磨槽的凹槽底部添加有纳米金刚石粉，所述纳米金刚石粉分别位于单晶金刚石的上下表面与相应上下研磨槽之间。
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