[实用新型]一种硅基片自动清洗处理机

说明书

本实用新型公开了一种硅基片自动清洗处理机，包括通风实验柜、龙门架、机械臂、装夹工装、注液泵、电动滑台、防护盖板、吹干气嘴和循环泵，所述通风实验柜内部安装有龙门架，龙门架上设置有机械臂，机械臂的下端连接有装夹工装，通风实验柜的前侧开有料口，所述通风实验柜内部还设有注液泵，注液泵的右侧依次设有氢氟酸槽、去离子水槽和温控双氧水箱。本设备对于硅基片清洗处理流程实现全自动化操作；且设备为密封状态，保障危险气体、液体外泄飞溅，同时避免人工接触高危化学品（HF氢氟酸）及高温，大大提高操作人员人身安全和工作效率。

技术领域

本实用新型涉及一种清洗机，具体是一种硅基片自动清洗处理机。

背景技术

多孔硅作为一种新型的室温气敏材料，对NH3、NO2等具有敏感特性。多孔硅是在硅片表面形成的一种具有高比表面积的多孔疏松结构，具有很高的化学活性，并与半导体工艺技术兼容，在生长金属氧化物纳米材料时也可作为基底。在对硅基片进行清洗时，现有技术无法实现全自动化清洗，同时存在危险气体泄漏、液体外泄飞溅，操作人员接触高危化学品（HF氢氟酸）及高温的风险。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种硅基片自动清洗处理机，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种硅基片自动清洗处理机，包括通风实验柜、龙门架、机械臂、装夹工装、注液泵、电动滑台、防护盖板、吹干气嘴和循环泵，所述通风实验柜内部安装有龙门架，龙门架上设置有机械臂，机械臂的下端连接有装夹工装，装夹工装用于夹持待清洗的硅基片，通风实验柜的前侧开有料口，操作工将需要加工产品如硅基片等类似物品通过独立的料口放入装夹工装内，所述通风实验柜内部还设有注液泵，注液泵的右侧依次设有氢氟酸槽、去离子水槽和温控双氧水箱，注液泵与氢氟酸槽之间通过输液管相连，注液泵根据预先参数自动将化学药品注入氢氟酸槽内，所述通风实验柜内部还设有电动滑台，电动滑台的一端连接有防护盖板，电动滑台可实现防护盖板的打开和闭合，所述去离子水槽的上方设有吹干气嘴，吹干气嘴可将硅基片吹干，通风实验柜的前侧还设有第一防护门，第一防护门的下方还设有第二防护门，第二防护门位于通风实验柜的底部前侧，通风实验柜的底部还设有管道，管道一端分别与氢氟酸槽、去离子水槽和温控双氧水箱连接，通风实验柜管道的另一端连接有循环泵。

作为本实用新型进一步的方案：所述通风实验柜的顶部开有排气口。

作为本实用新型再进一步的方案：所述第一防护门为左右移动结构且第一防护门为透明状。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本设备对于硅基片清洗处理流程实现全自动化操作；且设备为密封状态，保障危险气体、液体外泄飞溅，同时避免人工接触高危化学品（HF氢氟酸）及高温，大大提高操作人员人身安全和工作效率。

附图说明

图1为一种硅基片自动清洗处理机的结构示意图。

图2为一种硅基片自动清洗处理机的立体图。

图中：1-通风实验柜、2-龙门架、3-机械臂、4-装夹工装、5-料口、6-注液泵、7-氢氟酸槽、8-去离子水槽、9-温控双氧水箱、10-电动滑台、11-防护盖板、12-吹干气嘴、13-第一防护门、14-第二防护门、15-管道、16-循环泵。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。