[实用新型]一种玻璃熔片的存放装置有效

专利信息
申请号: 201820398801.1 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN208053916U 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 刘玉兵;戴平;韩蔚;卢娟娟;马振珠;邓赛文 申请(专利权)人: 中国建材检验认证集团股份有限公司
主分类号: B65D25/10 分类号: B65D25/10
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 容纳空间 玻璃熔片 本实用新型 存放装置 圆形台阶 长期保存 方便移动 物理损伤 干燥筒 内表面 潮解 盛放 筒盖 连通 污染 保证 分析
【说明书】:

实用新型是关于一种玻璃熔片的存放装置,包括,干燥筒、样片筒、样片架和筒盖,所述样片筒用于盛放所述的样片架,所述的样片架具有凹槽,所述样片架的内表面具有圆形台阶,圆形台阶将样片架的凹槽分为第一容纳空间和第二容纳空间,且,第一容纳空间与第二容纳空间连通,定义第一容纳空间的直径为第一直径,定义第二容纳空间的直径为第二直径,所述第一直径大于第二直径,其中,第一容纳空间用于放置玻璃熔片。本实用新型提供的装置可保证玻璃熔片的分析面既不会潮解,也不会发生物理损伤和污染,从而达到长期保存和方便移动的目的。

技术领域

本实用新型涉及一种样品贮存装置,特别是涉及一种XRF分析用玻璃熔片的存放装置。

背景技术

采用XRF(X Ray Fluorescence)定量分析方法对样品进行分析时,需要将待测样品分析面做成平整光面,而对于粉末状样品,采用将待测粉末样品与熔剂混合后,在高温下熔融铸成玻璃熔片进行分析,是一种常用的分析样品处理方法。

在实际分析过程中,需保持玻璃熔片分析面的表面平整和清洁,才能得到准确的XRF分析结果。尤其是制作绘制工作曲线用的标准样品玻璃熔片和进行仪器漂移校正用的玻璃熔片等特殊玻璃熔片,此时的玻璃熔片需具备优质的品质,才能保证分析结果的准确性。

由于玻璃熔片的分析面与任何物质的硬接触都会对玻璃熔片的分析面造成污染,甚至对分析面造成微小损伤,进而影响XRF的分析结果,给玻璃熔片的保存以及玻璃熔片在不同地区实验室之间的移动带来困难。即使是制作绘制工作曲线用的标准样品玻璃熔片和进行仪器漂移校正用的玻璃熔片等特殊玻璃熔片,也需要本实验室自行制备。然而,不同实验室由于试验条件不同,且试验人员的操作水平不一,制得的玻璃熔片的品质也有较大差异,因此在进行工作曲线绘制以及仪器漂移校正时存在由于制备的玻璃熔片品质问题影响XRF分析结果的准确性的情况。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于,提供一种玻璃熔片的存放装置,用于XRF分析用玻璃熔片的存放,便于玻璃熔片的存放和运输,从而更加适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。

依据本实用新型提出的一种玻璃熔片的存放装置,包括,干燥筒、样片筒、样片架和筒盖,所述样片筒用于盛放所述的样片架,所述的样片架具有凹槽,所述样片架的内表面具有圆形台阶,圆形台阶将样片架的凹槽分为第一容纳空间和第二容纳空间,且,第一容纳空间与第二容纳空间连通,定义第一容纳空间的直径为第一直径,定义第二容纳空间的直径为第二直径,所述第一直径大于第二直径,其中,第一容纳空间用于放置玻璃熔片。

本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的第一容纳空间的高度大于1mm且小于玻璃熔片的厚度。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的样片架的高度大于5mm。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的样片架的数量为一个或多个。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的样片架至少包括第一样片架和第二样片架,其中,所述的第一样片架包括第一上底面和第一下底面,所述的第一上底面中空,用于形成第一样片架的第一容纳空间,第一容纳空间用于放置第一玻璃熔片,所述的第二样片架包括第二上底面和第二下底面,所述第二下底面用于压紧所述的第一玻璃熔片。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的第二下底面为弹性表面。

优选的,前述的一种玻璃熔片的存放装置,其中所述的样片筒具有顶部开口和底部开口,其中,所述的筒盖用于密封所述的顶部开口,所述的干燥筒用于密封所述的底部开口。

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