[实用新型]单片半导体器件和半导体器件有效

专利信息
申请号: 201820405821.7 申请日: 2017-07-18
公开(公告)号: CN208189593U 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: J·W·霍尔;G·M·格里弗纳 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张小稳
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 二极管 单片半导体器件 衬底 半导体器件 功率区域 本实用新型 改进 二极管连接 桥式整流器
【权利要求书】:

1.一种单片半导体器件,包括:

衬底;

第一二极管,形成在所述衬底的第一功率区域中;

第二二极管,形成在所述衬底的第二功率区域中;

第三二极管,形成在所述衬底的第三功率区域中;以及

第四二极管,形成在所述衬底的第四功率区域中,其中所述第一二极管、所述第二二极管、所述第三二极管以及所述第四二极管连接作为桥式整流器。

2.根据权利要求1所述的单片半导体器件,还包括形成在所述第一功率区域和所述第二功率区域之间的隔离沟槽。

3.根据权利要求1所述的单片半导体器件,还包括形成在所述衬底的控制区域中的控制电路。

4.根据权利要求1所述的单片半导体器件,还包括形成在所述第一功率区域、所述第二功率区域、所述第三功率区域和所述第四功率区域之上的互连结构。

5.根据权利要求1所述的单片半导体器件,其中所述衬底包括绝缘体上硅衬底。

6.一种半导体器件,包括:

衬底;和

桥式整流器,所述桥式整流器包括第一二极管、第二二极管、第三二极管和第四二极管,所述第一二极管、所述第二二极管、所述第三二极管和所述第四二极管各自形成在所述衬底的分离的功率区域中。

7.根据权利要求6所述的半导体器件,还包括形成在所述衬底的包含所述第一二极管的第一功率区域与所述衬底的包含所述第二二极管的第二功率区域之间的隔离沟槽。

8.根据权利要求6所述的半导体器件,还包括形成在所述衬底的控制区域中的控制电路。

9.根据权利要求6所述的半导体器件,还包括连接到所述第一二极管、所述第二二极管、所述第三二极管和所述第四二极管的互连结构。

10.根据权利要求6所述的半导体器件,其中所述衬底包括绝缘体上硅衬底。

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