[实用新型]一种旋转式磁控溅射装置

说明书

本实用新型涉及溅射镀膜领域，特别涉及一种旋转式磁控溅射装置，包括真空箱体、水平设置的密封盖板、移动导杆机构和磁铁旋转机构，所述磁铁旋转机构包括水平设置的支撑板、旋转电机、水平设置的旋转叶片、连接柱、磁铁和磁铁座，本实用新型的一种旋转式磁控溅射装置，当设备工作时，旋转电机带动旋转叶片旋转，旋转叶片通过长条形通槽和连接柱顶端的圆柱型凸轮滑动配合，带动连接柱、磁铁座和磁铁沿环形滑槽在密封盖板表面滑动，使得靶材下部的磁感应线均匀分布在整个靶材的溅射面范围，有效减少了固定磁场对靶材固定区域的过度刻蚀，使靶材表面各个部位均匀刻蚀，大大提高了平面靶材的利用率和使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜领域，特别涉及一种旋转式磁控溅射装置。

背景技术

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，2013年的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。

目前广泛应用的平面靶材的利用率大概在25%，常规的设备在使用时，磁场的磁感应线在靶材的表面分布比较集中且不均匀，导致靶材表面这些磁感应线分布密集的部位刻蚀较快，而磁感应线分布系数的部位刻蚀缓慢，导致了平面靶材使用率底下，使用寿命缩短，因此有效的提高平面靶材的利用率和使用寿命成了当今行业的迫切需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种旋转式磁控溅射装置。

优选的，包括真空箱体、水平设置的密封盖板、移动导杆机构和磁铁旋转机构，所述密封盖板固定安装在真空箱体顶部，所述密封盖板顶部的四个拐角处分别设有竖直设置的第一支撑柱、第二支撑柱、第三支撑柱和第四支撑柱，所述移动导杆机构包括水平设置的第一滑道和第二滑道，所述第一滑道的两端分别与第一支撑柱和第二支撑柱固定连接，所述第二滑道的两端分别与第三支撑柱和第四支撑柱固定连接，所述第一滑道上设有与第一滑道滑动配合的第一伸缩杆，第一伸缩杆水平设置，第一伸缩杆的轴线与第一滑道的长度方向垂直，所述第二滑道上设有与第二滑道滑动配合的第二伸缩杆，第二伸缩杆水平设置，第二伸缩杆的轴线与第二滑道的长度方向垂直，所述磁铁旋转机构包括水平设置的支撑板、旋转电机、水平设置的旋转叶片、连接柱、磁铁和磁铁座，所述支撑板的四个拐角处设有供支撑柱顶端一一对应插接的安装槽，所述支撑板底部设有供连接柱滑动的环形滑槽，旋转电机与支撑板的顶部固定连接，旋转电机的输出端竖直朝下贯穿支撑板，所述旋转叶片为长条形板，旋转叶片的一端与旋转电机的输出端固定连接，所述旋转叶片设有和连接柱顶端滑动配合的长条形通槽，磁铁座与连接柱的底端固定连接，所述磁铁与磁铁座的底部固定连接。

优选的，所述第一滑道两端均设置有卡扣，第一滑道两端分别通过卡扣与第一支撑柱和第二支撑柱固定连接，所述第一滑道包括有水平且间隔设置的第一上滑道和第一下滑道，第一上滑道和第一下滑道沿长度方向均设置有长条形的滑槽。

优选的，所述第一上滑道和第一下滑道之间设有轴承，第一上滑道的滑槽设置在第一上滑道的底部，第一下滑道的滑槽设置在第一下滑道的顶部，第一上滑道的滑槽和第一下滑道的滑槽均与轴承滑动配合，所述第一伸缩杆的一端穿过轴承内圈与第一滑道滑动配合，所述第一伸缩杆在轴承的两侧设有防脱落环。

优选的，所述第二滑道两端均设置有卡扣，第二滑道两端分别通过卡扣与第三支撑柱和第四支撑柱固定连接，所述第二滑道包括有水平且间隔设置的第二上滑道和第二下滑道，第二上滑道和第二下滑道沿长度方向均设置有长条形的滑槽。