[实用新型]一种光线利用率高的保护膜有效
| 申请号： | 201820470735.4 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN208092267U | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 张蕊;管重阳;马飞;任小英;卢燕 | 申请（专利权）人： | 深圳市亮键电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B1/10 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 王雪镅 |
| 地址： | 518106 广东省深圳市光明新区马*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 保护膜 薄膜基板 光线利用率 弧形凹面 弧形凸面 防眩层 上表面 下表面 防眩 本实用新型 出光面 喷涂于 光能 绕射 射出 拼接 涂料 | ||
【权利要求书】：
1.一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：包括薄膜基板、设置于所述薄膜基板的下表面的防眩层、以及形成于所述薄膜基板的上表面的若干个形状相同的弧形凸面和弧形凹面；
所述弧形凸面和所述弧形凹面相邻拼接；
所述防眩层是由防眩涂料通过喷涂于所述薄膜基板的下表面而形成。
2.根据权利要求1所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述弧形凸面设置为半球形凸面。
3.根据权利要求1所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述弧形凹面设置为半球形凹面。
4.根据权利要求2所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述半球形凸面的半径设置为10μm～100μm。
5.根据权利要求4所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述半球形凸面的半径设置为50μm。
6.根据权利要求3所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述半球形凹面的半径设置为10μm～100μm。
7.根据权利要求6所述的一种光线利用率高的保护膜，其特征在于：所述半球形凹面的半径设置为50μm。
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