[实用新型]一种密封反射镜调节架装置有效

专利信息
申请号: 201820486819.7 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN208110146U 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 梁宗森;陈国栋;吕洪杰;翟学涛;杨朝辉;高云峰 申请(专利权)人: 大族激光科技产业集团股份有限公司;深圳市大族数控科技有限公司
主分类号: G02B7/182 分类号: G02B7/182;B23K26/70;B23K26/064
代理公司: 深圳市道臻知识产权代理有限公司 44360 代理人: 陈琳
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镜腔 反射镜调节 调节组件 光路 密封 本实用新型 第二密封件 密封件 封盖 高密封性能 光学元件 激光设备 密封条件 使用寿命 双重密封 反射镜 密封盖 合围 空腔 洁净 保证 维护
【说明书】:

本实用新型公开了一种密封反射镜调节架装置,包括镜腔、调节组件和密封盖,所述调节组件安装在镜腔和密封盖扣合时合围成的空腔内,所述镜腔与调节组件的接触面设有第一密封件,所述镜腔与密封盖的接触面设有第二密封件。本实用新型通过第一密封件和第二密封件的双重密封,实现光路中的密封反射镜调节架装置的高密封性能,保证光学元件达到设计的性能,延长激光设备使用寿命。维护光路的过程中,调节反射镜是在密封条件下进行的,保证光路内部洁净。

技术领域

发明涉及一种用于激光加工设备光学系统的密封反射镜调节架装置。

背景技术

激光技术的发展,最直接体现在激光功率的持续提高,有力地支持着激光应用行业的发展。高功率密度的激光束对光学元件的抗损伤性能提出越来越严苛的要求。光学元件的性能除了自身的材料及镀膜之外,很大程度依赖于环境的洁净度,被尘埃等污染的光学元件性能大幅度下降,远远偏离设计标准。密封性差的激光设备,其光学元件比较容易受到尘埃等污染,需要停机保养与维护的时间间隔短,严重影响生产效率。因此,在激光设备集成设计中,严格的光路密封设计是保证设备光学性能的重要方法之一。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种密封性能好、结构坚固紧凑、集成方便、容易调节及易于维护的反射镜调节架装置。

为解决上述技术问题,本实用新型提供的技术方案为:

一种密封反射镜调节架装置,包括镜腔、调节组件和密封盖,所述调节组件安装在镜腔和密封盖扣合时合围成的空腔内,所述镜腔与调节组件的接触面设有第一密封件,所述镜腔与密封盖的接触面设有第二密封件。

进一步地,所述镜腔包括第一密封面和第二密封面,所述第一密封件抵触在第一密封面上,所述第二密封件抵触在第二密封面上。

进一步地,所述镜腔还包括安装面,安装面设置于所述第一密封面和第二密封面之间,所述调节组件通过连接件安装在安装面上。

进一步地,所述第二密封件固定在所述密封盖上,所述第二密封面上开设有密封件槽,所述镜腔和密封盖扣合时,所述第二密封件容置于密封件槽内。

进一步地,所述第一密封件和第二密封件为密封圈。

进一步地,所述密封盖与镜腔配合后整体呈立方体或长方体。

进一步地,所述密封盖与镜腔由金属材料制成。

进一步地,所述调节组件包括调节板、反射镜和手动旋紧块,所述反射镜安装到调节板上,所述手动旋紧块转动的安装在调节板上,可压紧反射镜,所述第一密封件固定在调节板上。

进一步地,所述手动旋紧块与反射镜之间设置有用于均匀压力和密封的缓冲圈。

进一步地,所述镜腔还包括与密封导光管相匹配的导光孔,所述导光孔为螺纹孔。

本实用新型的有益效果:本实用新型通过第一密封件和第二密封件的双重密封,实现光路中的密封反射镜调节架装置的高密封性能,保证光学元件达到设计的性能,延长激光设备使用寿命。维护光路的过程中,调节反射镜是在密封条件下进行的,保证光路内部洁净。

附图说明

图1为本实用新型实施例中密封反射镜调节架装置的爆炸图;

图2为镜腔的立体结构示意图;

图3为调节组件的立体结构示意图;

图4为密封反射镜调节架装置在激光切割机光路的一种应用示意图。

附图标记包括:

100—密封反射镜调节架装置 110—镜腔

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