[实用新型]一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件有效
申请号: | 201820487064.2 | 申请日: | 2018-04-08 |
公开(公告)号: | CN207967003U | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 朱袁正;周锦程 | 申请(专利权)人: | 无锡新洁能股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/78;H01L29/417;H01L29/423 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 第一导电类型 导电类型 深沟槽 通孔 源区 本实用新型 功率器件 硅外延层 雪崩耐量 源极金属 场氧层 半导体器件 绝缘介质层 导通电阻 降低器件 平台中心 体区接触 相邻沟槽 有效抑制 薄弱点 传统的 电阻率 硅衬底 平台区 屏蔽栅 双通孔 外延层 栅氧层 击穿 体区 汇聚 制造 改进 | ||
1.一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,包括用于引出漏区的第一导电类型硅衬底(1)及位于所述第一导电型类型硅衬底(1)上的第一导电类型硅外延层(2),在所述第一导电类型硅外延层(2)内设有沟槽(13),在所述沟槽(13)内设有场氧层(3)、被所述场氧层(3)包裹的屏蔽栅(4)、位于屏蔽栅(4)顶端两侧的由多晶硅形成的栅极(5)及包裹在所述栅极(5)周围的栅氧层(6),所述栅极(5)位于场氧层(3)的顶部,相邻的沟槽(13)间的第一导电类型硅外延层(2)表面设有第二导电类型体区(8)及位于所述第二导电类型体区(8)表面的第一导电类型源区(9),在沟槽(13)与第一导电类型源区(9)上设有绝缘介质层(11),在所述绝缘介质层(11)上设有源极金属(12),其特征在于,在相邻沟槽(13)间的平台区,所述源极金属(12)通过两个通孔(7)与第二导电类型体区(8)接触,且每个通孔(7)下方均设有第二导电类型源区(10)。
2.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,所述通孔(7)依次穿过绝缘介质层(11)、第一导电类型源区(9)插入第二导电类型体区(8)内。
3.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,所述沟槽(13)侧壁与距离最近的通孔(7)的间距均相同。
4.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,所述屏蔽栅(4)接源极电位或所述源极金属(12)通过通孔与屏蔽栅(4)电连接。
5.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,所述第二导电类型源区(10)位于第二导电类型体区(8)内。
6.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,对于N型深沟槽功率器,所述第一导电类型为N型,所述第二导电类型为P型,对于P型深沟槽功率器,第一导电类型为P型,第二导电类型为N型。
7.根据权利要求1所述的一种高雪崩耐量的深沟槽功率器件,其特征在于,所述深沟槽功率器包括IGBT器件和MOSFET器件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡新洁能股份有限公司,未经无锡新洁能股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820487064.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种IGBT器件
- 下一篇:抗辐射功率场效应晶体管
- 同类专利
- 专利分类