[实用新型]一种纳米真空镀膜装置

说明书

本实用新型属于真空镀膜技术领域，特别涉及一种纳米真空镀膜装置，包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述控制柜、所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别连接于所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。通过上述结构使得本实用新型的镀膜均匀，且镀膜效果好，尤其适用于大批量工业化生产，具有很高的市场应用价值。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，特别涉及一种纳米真空镀膜装置。

背景技术

目前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光经过镜片的能量损耗。又如于某些滤光组件表面镀上一层滤光膜制成滤光片，其可过滤掉一预定波段的光。一般地，镀膜方法主要包括蒸镀法、离子镀膜法、射频磁控溅镀、化学气相沉积法等。

蒸镀装置通常包括一个蒸镀腔室、一个用于承载待镀膜工件的伞形基板及一个位于该伞形基板正下方的用于承载膜料的坩埚。传统的蒸镀方法是将待镀膜基材放置于伞形基板上，然后使气态或离子态的膜料沉积于待镀膜基材上表面形成薄膜。然而，一般蒸镀装置内用于承载膜料的坩埚距离该伞形基板每一个点的距离不完全相等，导致沉积速率不均等，所以会产生膜厚不均匀的现象，影响镀膜质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种镀膜均匀、不影响质量的镀膜装置。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

提供一种纳米真空镀膜装置，包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别与所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵连接，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。

优选地，所述控制器包括控制柜和控制屏，所述控制柜安装于所述机架内部，且所述控制柜位于所述升华炉和所述分解炉的下方，所述控制屏设置于所述机架的上方，且所述控制屏和所述控制柜电连接。

优选地，所述升华炉包括升华炉腔、进料口和出料口，所述进料口和所述出料口设置于所述升华炉腔的两端，升华炉腔的外壁设置有多个加热片。

优选地，所述进料口的入口处密封安装有原料门。

优选地，所述真空镀膜缸体包括产品放置缸体、缸体盖、移动装置和锁紧松开装置，所述产品放置缸体设置于所述移动装置，所述缸体盖与所述锁紧松开装置连接，所述缸体盖盖接于所述产品放置缸体，所述产品放置缸体设置有真空涂膜腔，所述真空涂膜腔内部放置有产品放置架。

优选地，所述移动装置包括固定座和移动轮，所述移动轮设置于所述固定座的底部，所述产品放置缸体固定于所述固定座。

优选地，所述锁紧松开装置包括第一固定部、第二固定部、连接板、连接杆、液压缸和控制块，所述第一固定部固定于所述产品放置缸体的外壁，所述第二固定部固定于所述固定座，所述液压缸安装于所述第一固定部，且所述液压缸套设有转动套，所述连接板的一端连接于所述缸体盖，所述连接板的另一端连接于所述转动套，所述连接杆的一端与所述液压缸的输入端连接，所述连接杆的另一端与所述控制块连接。

优选地，所述真空涂膜腔的内壁设置有两个相互对应的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板的一侧均与所述真空涂膜腔的内壁密封，所述第一挡板和所述第二挡板的的另一侧均与所述真空涂膜腔的内壁具有空隙。

优选地，所述缸体盖设置有观察窗。