[实用新型]一种氮化物薄膜太阳能电池有效
申请号: | 201820503196.X | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN208062083U | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 马亮 | 申请(专利权)人: | 北京创昱科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/056 | 分类号: | H01L31/056;H01L31/0352;H01L31/0445 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王文君;王文红 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 高反射率 太阳能电池 波段 布拉格反射镜 本实用新型 氮化物薄膜 多量子阱层 非掺杂层 非掺杂 衬底 电池光谱响应 低折射率层 高量子效率 边缘区域 波段调整 波段位置 向上设置 效率实现 台面 氮化物 可调的 周期数 最大化 协调 | ||
1.一种氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,包括衬底、非掺杂层、布拉格反射镜、n型掺杂层、非掺杂多量子阱层、p型掺杂层;在所述衬底上从下向上依次设置所述非掺杂层、布拉格反射镜、n型掺杂层、非掺杂多量子阱层和p型掺杂层,所述n型掺杂层的边缘区域为台面,在台面上设置有n型欧姆电极,在所述p型掺杂层上设置有p型欧姆电极。
2.根据权利要求1所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述布拉格反射镜包括高折射率氮化物层和低折射率氮化物层交替设置的周期性结构。
3.根据权利要求2所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述布拉格反射镜中,高折射率氮化物层的厚度为1~500nm,所述低折射率氮化物层的厚度为1~500nm。
4.根据权利要求2所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述布拉格反射镜包括3~100对高折射率氮化物层和低折射率氮化物层交替设置的周期性结构。
5.根据权利要求1所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述非掺杂层还包括成核层,成核层为氮化镓、氮化铝、氮化铝镓、氮化铟镓、氮化铝铟镓中的一种或多种形成的堆叠结构。
6.根据权利要求1所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述非掺杂层为氮化镓、氮化铝、氮化铝镓、氮化铟镓、氮化铝铟镓中的一种或多种形成的堆叠结构。
7.根据权利要求1所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述n型掺杂层和p型掺杂层互相独立地选自氮化镓、氮化铝镓、氮化铝铟镓中的一种;所述n型掺杂层中掺杂有Si、Sn、S、Se或Te中的一种;所述p型掺杂层中掺杂有Be、Mg、Zn、Cd或C中的一种。
8.根据权利要求1所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述非掺杂多量子阱层包括1~300对交替设置的量子阱层和量子垒层周期性结构。
9.根据权利要求1~8任一项所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,在所述p型掺杂层和P型欧姆电极上覆盖有抗反射层。
10.根据权利要求9所述的氮化物薄膜太阳能电池,其特征在于,所述抗反射层包括1~30组交替的SiO2和Ta2O5薄膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京创昱科技有限公司,未经北京创昱科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820503196.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的