[实用新型]一种黑色导电PVD薄膜有效

专利信息
申请号: 201820506832.4 申请日: 2018-04-11
公开(公告)号: CN208121182U 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 杜旭颖;阮志明;王大;曾德强;庞文峰 申请(专利权)人: 深圳市正和忠信股份有限公司
主分类号: C23C14/14 分类号: C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 中山市兴华粤专利代理有限公司 44345 代理人: 林红燕
地址: 518117 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 导电 过渡层 薄膜 基材表面 功能层 钨合金 颜色层 镀层 物理气相沉积 真空镀膜技术 本实用新型 导电碳化物 耐磨擦性能 碳化物镀层 薄膜沉积 单一金属 方块电阻 混合镀层 耐腐蚀 耐候性 电阻 膜厚
【权利要求书】:

1.一种黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述黑色导电PVD薄膜沉积于基材表面,所述黑色导电PVD薄膜由基材表面从下往上依次包括:

底层,所述底层为单一金属底层;

第一过渡层,所述第一过渡层为钨合金镀层;

第二过渡层,所述第二过渡层为钨合金碳化物镀层;

功能层,所述功能层为导电碳化物镀层;

颜色层,所述颜色层为非晶碳和碳化钨的混合镀层。

2.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述基材为不锈钢基材、玻璃基材、陶瓷基材或塑胶基材。

3.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述单一金属底层为钛金属镀层、铬金属镀层或锆金属镀层中的一种。

4.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述钨合金镀层为钛钨合金镀层、铬钨合金镀层或锆钨合金镀层中的一种。

5.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述钨合金碳化物镀层为钛钨合金碳化物镀层、铬钨合金碳化物镀层或锆钨合金碳化物镀层中的一种。

6.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述导电碳化物镀层为碳化钨镀层。

7.根据权利要求1所述的黑色导电PVD薄膜,其特征在于:所述黑色导电PVD薄膜的厚度为1-5微米。

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