[实用新型]一种真空腔体KF法兰检漏装置

说明书

本实用新型公开一种真空腔体KF法兰检漏装置，包括KF盲板、KF卡箍组件、转接法兰、波纹管与氦质谱检漏仪，所述KF盲板与KF法兰的内侧形成封堵配合,转接法兰通过KF卡箍组件与KF法兰的外侧相连，波纹管的一端与转接法兰相连、另一端与氦质谱检漏仪相连；将有漏点嫌疑的KF法兰内侧用KF盲板封堵，形成单独的密封空间，KF法兰外侧依次通过KF卡箍组件、转接法兰与波纹管连接氦质谱检漏仪，利用氦质谱检漏仪进行检漏，从而对KF法兰是否存在漏点进行排除，检漏效率高、成本低，提高一次检漏的合格率，减少重复性检漏工作。

技术领域

本实用新型涉及低辐射磁控溅射镀膜玻璃生产设备技术领域，具体是一种真空腔体KF法兰检漏装置。

背景技术

低辐射磁控溅射镀膜玻璃设备要求其腔体是一个密封的真空容器，腔体结构上有焊接很多KF接管法兰，法兰尺寸多种规格，有KF16,KF25,KF40等。这些KF法兰主要用于真空设备辅助设备的安装，如这空贯穿件、冷却铜排、辅助检漏等。

而真空腔体上局部会有几个或者更多的KF法兰焊接在同一片区域，在整体抽真空状态下，如果其中一个KF法兰存在问题，很难判定是该区域内的哪个KF法兰有问题，这给设备真空检漏带来很大困扰和不必要的工作量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空腔体KF法兰检漏装置，该装置能够对KF法兰单独进行检漏，提高设备检漏的一次合格率。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种真空腔体KF法兰检漏装置，包括KF盲板、KF卡箍组件、转接法兰、波纹管与氦质谱检漏仪，所述KF盲板与KF法兰的内侧形成封堵配合, 转接法兰通过KF卡箍组件与KF法兰的外侧相连，波纹管的一端与转接法兰相连、另一端与氦质谱检漏仪相连。

本实用新型的有益效果是，将有漏点嫌疑的KF法兰内侧用KF盲板封堵，形成单独的密封空间，KF法兰外侧依次通过KF卡箍组件、转接法兰与波纹管连接氦质谱检漏仪，利用氦质谱检漏仪进行检漏，从而对KF法兰是否存在漏点进行排除，检漏效率高、成本低，提高一次检漏的合格率，减少重复性检漏工作。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的局部放大示意图；

图3是本实用新型的使用示意图。

具体实施方式

结合图1与图2所示，本实用新型提供一种真空腔体KF法兰检漏装置，包括KF盲板1、KF卡箍组件2、转接法兰3、波纹管4与氦质谱检漏仪5，KF法兰7安装于真空腔体6，KF盲板1与KF法兰7的内侧形成封堵配合, 可采用O型圈与真空脂等常规方式进行封堵；转接法兰3通过KF卡箍组件2与KF法兰7的外侧相连，KF卡箍组件2由常规的KF卡箍与密封圈构成，波纹管4的一端与转接法兰3相连、另一端与氦质谱检漏仪5相连。

结合图3所示，将有漏点嫌疑的KF法兰7内侧用KF盲板1封堵，形成单独的密封空间，KF法兰7外侧依次通过KF卡箍组件2、转接法兰3与波纹管4连接氦质谱检漏仪5，利用氦质谱检漏仪5进行检漏，具体可利用氦质谱检漏仪5本身自带的泵体对封堵形成的密封空间进行抽真空，用喷枪8以示漏气体氦气对KF法兰7周围喷洒，观察氦质谱检漏仪5的漏率变化，以判断KF法兰7是否存在漏点， 从而对KF法兰是否存在漏点进行排除，检漏效率高、成本低，提高一次检漏的合格率，减少重复性检漏工作。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。