[实用新型]一种用于磁控溅射镀膜的型材有效
申请号: | 201820516825.2 | 申请日: | 2018-04-11 |
公开(公告)号: | CN208071803U | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 蒋道顶 | 申请(专利权)人: | 无锡市重本异型钢管有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙) 31298 | 代理人: | 徐银辉 |
地址: | 214037 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆弧部 直线部 磁控溅射镀膜 本实用新型 水平部 避让 连接安装部 封闭空间 一端连接 安装槽 避让槽 封闭端 封闭 预留 保证 | ||
本实用新型公开一种用于磁控溅射镀膜的型材,包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部,所述上部包括避让部、水平部以及连接部,所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部,所述连接部连接第二直线部和水平部;所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端,所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部,所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部,所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部,所述封闭端的一端连接第二圆弧部,所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上,形成封闭空间,本实用新型在保证强度的同时预留安装槽和避让槽。
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜领域,具体是一种用于磁控溅射镀膜的型材。
背景技术
磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极,利用氩离子轰击靶材,产生阴极溅射,把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。磁控溅射镀膜需要相配套的设备,由于磁控溅射镀膜的特点,需要设备的型材上预留两个安装槽和一个避让槽并保证强度。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于磁控溅射镀膜的型材,在保证强度的同时预留安装槽和避让槽。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:
一种用于磁控溅射镀膜的型材,包括上部、下部以及连接上部和下部的直线部,所述上部包括避让部、水平部以及连接部,所述避让部包括第一直线部、第一圆弧部和第二直线部,所述连接部连接第二直线部和水平部;所述下部包括2个安装部、安装部连接部和封闭端,所述安装部包括两个第二圆弧部和连接两个第二圆弧部的第三直线部,所述安装部连接部连接两个安装部的第二圆弧部,所述直线部通过第四直线部连接安装部的第二圆弧部,所述封闭端的一端连接第二圆弧部,所述封闭端的另一端贴在第一圆弧部上,形成封闭空间。
进一步的,所述避让部开口朝上。
进一步的,所述避让部的第一直线部与第二直线部平行,所述第一圆弧部为半圆,所述第二直线部的长度大于第一直线部的长度。
进一步的,所述连接部为直线,所述直线部与水平部的夹角为钝角。
进一步的,所述安装部连接部包括依次连接的第五直线部、第六直线部、第七直线部和第八直线部,第五直线部与其中一个安装部的第二圆弧部圆弧连接,第八直线部与另一个安装部的第二圆弧部圆弧连接,所述第六直线部与水平部平行。
进一步的,第八直线部的顶部与直线部的垂直距离为88mm,第六直线部与避让部的顶端距离为30.7mm,所述型材的厚度为1.5mm。
优选的,所述第三直线部朝向上部。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型结构巧妙,将避让部设置在上端,两个安装部设置在下部,水平部用来放置设备的其他零部件,型材的封闭端贴在第一圆弧部上,形成封闭空间,这样整个型材能保证安装槽和避让槽的位置设置,又能提高整个型材的强度。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型用于磁控溅射镀膜的型材的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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