[实用新型]一种纹影系统中的纹影光源有效
申请号: | 201820533939.8 | 申请日: | 2018-04-11 |
公开(公告)号: | CN208283700U | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 邓凯文;王泓鑫;黄昊楠;欧慧东;陈嘉颖;薛竣文 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学珠海学院 |
主分类号: | G03B15/03 | 分类号: | G03B15/03;G03B29/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 温旭 |
地址: | 519000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 触屏手机 光源 纹影 纹影光源 控制端 本实用新型 干涉效应 光栅装置 无线连接 衍射效应 三维 升降 | ||
本实用新型公开了一种纹影系统中的纹影光源,包括:控制端、触屏手机,触屏手机放置于三维升降台上,触屏手机与纹影镜、CMOS相机保持在同一高度;控制端与触屏手机无线连接。实用新型可以在极小的范围内调整光源大小;同时可以减少调节光源大小的光栅装置,这使得可以减弱光源的干涉效应和衍射效应,极大的提高了光源的质量。
技术领域
本申请涉及纹影系统领域,尤其涉及一种纹影系统中的纹影光源。
背景技术
在众多流场显示技术中,纹影法一直是流场显示较为清晰的一种技术,它不但直观地演示了流场的流动图谱,展示了流态地结构,而且也获得了流场地某些定量试验数据流场的直观显示对于数据采集分析可以提供直接的物理依据,进一步它还在声场、流场、传热、冲击波、等离子放电等方面研究中广泛使用。
但纹影法对光源的要求高。纹影系统的灵敏度与纹影镜焦距和刀口切割光源大小有直接关系,纹影镜焦距越大,刀口挡掉光源部分越大,纹影系统灵敏度越高。因此,在一定范围内,光源越小,刀口挡掉光源部分越大,纹影系统灵敏度越高。但在常见的纹影光源装置中,一般在光源前加光栅等装置调节光源的大小,这会对光源产生一定干涉现象,同时仪器多,调试费时。
实用新型内容
本实用新型实施例提供了一种纹影系统中的纹影光源,用以提升纹影系统中光源的光束质量,以及提升纹影系统的灵敏度。
其具体的技术方案如下:
一种纹影系统中的纹影光源,所述纹影光源包括:控制端、触屏手机、三维升降台、纹影镜、CMOS相机、扰动区域,其中;
所述触屏手机放置于所述三维升降台上,所述触屏手机与纹影镜、CMOS 相机保持在同一高度;
所述控制端与所述触屏手机无线连接;
两次通过扰动区域即因干扰源引起的空气折射率变化的区域,图像信息被COMS相机所采集。
可选的,所述触屏手机的触屏分辨率为1024*768。
可选的,所述控制端用于控制所述触屏手机上的图像尺寸以及亮度。
本实用新型可以在极小的范围内调整光源大小,即:最小可以每次将点光源半径增加或减少一个像素点;同时可以减少调节光源大小的光栅装置,这使得可以减弱光源的干涉效应和衍射效应,极大的提高了光源的质量。
附图说明
图1为本实用新型实施例中一种纹影系统中的纹影光源的结构示意图;
图2为本实用新型实施例中触屏手机与计算机之间的无线连接示意图。
具体实施方式
下面通过附图以及具体实施例对本实用新型技术方案做详细的说明,应当理解,本实用新型实施例以及实施例中的具体技术特征只是对本实用新型技术方案的说明,而不是限定,在不冲突的情况下,本实用新型实施例以及实施例中的具体技术特征可以相互组合。
如图1所示为的本实用新型中的一种纹影系统中的纹影光源,该纹影光源包括:控制端11、触屏手机12、三维升降台13、纹影镜14、CMOS相机15,扰动区域16。
所述触屏手机12放置于所述三维升降台13上,所述触屏手机12与纹影镜 14、CMOS相机15保持在同一高度;
所述控制端11与所述触屏手机12无线连接。
这里的控制端11可以为计算机或其他终端。
具体来讲,本实用新型采用触屏手机光源放在三维升降台13上,如图2所示:将计算机11、触屏手机12依次放在三维升降台13上,构成图1中光源部分;计算机11与触屏手机12通过无线通信连接。
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