[实用新型]一种密合式口罩有效
申请号: | 201820541680.1 | 申请日: | 2018-04-16 |
公开(公告)号: | CN208114037U | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 许大鹏 | 申请(专利权)人: | 许大鹏 |
主分类号: | A41D13/11 | 分类号: | A41D13/11 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 口罩本体 热合 伸缩缺口 穿线孔 口罩 挂带 可拆卸连接 无纺布 鼻梁 包边 脸型 本实用新型 叠合设置 使用方式 传统的 单一性 可伸缩 耳挂 密合 贴合 硬质 佩戴 体内 | ||
本实用新型公开了一种密合式口罩,包括口罩本体、与口罩本体可拆卸连接的挂带、以及设于口罩本体内的鼻梁条;口罩本体开设有若干穿线孔,挂带通过穿线孔与口罩本体可拆卸连接;口罩本体包括若干叠合设置的无纺布;无纺布的相对的两端设有热合包边;热合包边上开设有若干伸缩缺口,伸缩缺口位于鼻梁条的相对的两侧。由于在热合包边上开设有若干伸缩缺口,让硬质的热合包边变成了柔性可伸缩,进而能够实现随着脸型的变化而随机变动以实现与脸部的贴合,实现与脸接触的部位的周边全密合。在口罩本体开设有若干穿线孔,进而实现跟换不同的挂带,相对于传统的佩戴方式的单一性,可选择如耳挂、头挂或者二者混合等使用方式。
技术领域
本实用新型涉及劳动保护用品领域,尤其涉及一种密合式口罩。
背景技术
人类口罩防尘已有数百年的历史了。早先,在采矿、冶炼或炉窑等作坊干活的工匠知道粉尘有毒害。于是在干活时就用布蒙在脸上,减少粉尘的吸入量。18世纪未,美国发明了第一个防尘口罩专利。随着全球气候变暖,自然界遭受破坏,工业污染加重,雾霾频频发生等,口罩已成为人们劳动保护,个人防护的必需品了。口罩发展到现在,已有两方面的目的:一方面是为了保护自己,减少吸入粉尘的风险;另一方面戴口罩会阻挡说话或者咳嗽产生的唾液飞沫,对别人或者环境是有保护作用的。口罩起到了双向保护的作用。
但是,目前市场上的口罩还存在着技术和设计缺陷,主要表现在以下三个方面:目前市场上的口罩边沿与人脸的密合度不高,造成双向漏气风险:①.由于滤材都是由多种多层无纺布叠合而成的,其周边都采用包边或者热合硬化,裁切后达到定型目的,而这种硬化边沿,在人们佩戴时由于硬化边沿不易形变与脸贴合不好。②.硬化边沿长期戴时会感觉不舒适甚至有压痛感,也易发生过敏反应因为这些硬边沿产生的是线压力,硬度高的口罩易造成面部压痕。③.由于挂带只有两点焊接,当挂带产生弹力时,这两点间的口罩边沿,就会受到双向挤压力,使这段硬化边沿产生绉折等变形,存在双向漏气风险。目前市场上的口罩挂带都是用焊接固定,弊端如下:①.现在口罩的挂带方式虽然多:自挂式;头挂式;内挂式;外挂式等,但一只口罩只能焊接一种挂带方式:这在佩戴使用上很不方便。以耳挂式口罩为例。耳挂式口罩暂不使用时,就不能象头挂式口罩一样,取下口罩本体,挂在胸前,要用时又能戴上,非常方便。反之,用头挂式时,想用耳挂式又没有了。所以,唯一的挂带方式对佩戴是很不方便的。②.现有口罩的挂带都是定长焊接固定的,佩戴时依据脸形,靠挂带弹性伸长量。由弹性模量可知、伸长长度越大、挂带对耳根的压力会大增,造成耳根受压产生疼痛。反之,由于某人嘴到耳之间的距离小于挂带长度时,口罩根本佩戴不上。现有的办法是规定几个型号尺寸,但也不能满足千差万别的任何人需求。这也就产生了挂带人性化设计的一大瓶颈。
同时,现在的口罩生产设备中,挂带焊接工艺是制约性能的主要瓶颈。①.在口罩设备中,结构复杂,控制难度高,就属挂带焊接工艺段了。由于挂带在焊接过程中必须定位,停止、焊接、剪断、输送等多环节。所以是最耗时工段。造成整机速度提升不起来。②.该工艺段不仅结构复杂,机械手动作频繁。动态调节因素也很多,如定位、温度等。造成该工艺段出现的废品率最高。所以挂带焊接工艺,生产速度受限、废品率高的工艺段。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种密合式口罩,旨在解决现有技术中,口罩密封效果差以及挂带方式单一的问题的问题的问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种密合式口罩,包括口罩本体、与所述口罩本体可拆卸连接的挂带、以及设于所述口罩本体内的鼻梁条;所述口罩本体开设有若干穿线孔,所述挂带通过所述穿线孔与所述口罩本体可拆卸连接;所述口罩本体包括若干叠合设置的无纺布;所述口罩本体的相对的两端设有热合包边;所述热合包边上开设有若干伸缩缺口,所述伸缩缺口位于所述鼻梁条的相对的两侧。
进一步地,所述口罩本体还包括与所述无纺布平行设置的竹炭纤维层;所述鼻梁条设于所述无纺布。
进一步地,所述口罩本体的表面设有荧光图层。
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