[实用新型]吊具有效
申请号: | 201820555665.2 | 申请日: | 2018-04-18 |
公开(公告)号: | CN208120538U | 公开(公告)日: | 2018-11-20 |
发明(设计)人: | 周二磊;王迪;杨依辉;邓胜福 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | B66C1/10 | 分类号: | B66C1/10;B66C13/06 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 侧边 吊具 挂部 组吊 本实用新型 多边形体 被吊物 悬吊件 悬吊 支架 对称 吊放 均匀受力 相对两侧 吊挂部 中空的 受力 松动 解体 支撑 | ||
本实用新型涉及一种吊具,适用于悬吊中空的多边形体,所述多边形体至少具有三条侧边,所述吊具包括支架,所述支架上设置有多组吊挂部,所述吊挂部的数量不小于所述侧边的数量,每组吊挂部包括用于设置在同一条侧边之相对两侧的两个悬吊件,任意一组吊挂部的两个悬吊件能够对所述同一条侧边进行对称支撑而实现悬吊。本实用新型的吊具令被吊物内外侧同时对称均匀受力,避免因内外侧单侧受力而导致被吊物出现弯曲、松动、解体等风险,以此确保吊放过程的安全性和可靠性。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,特别涉及一种吊具。
背景技术
在化学气相沉积(Chemical Vapor-Deposition,CVD)工艺中,衬底设置在基座上进行气相沉积。其中,为了减少基座上材料的沉积,基座的暴露区域覆盖有阴影框架(Shadow frame)。由于阴影框架体积大,一般通过专用吊具进行取放。
图1提供了一种专用吊具1与阴影框架2相结合时的情况示意,如图1所示,所述专用吊具1包括四边形结构的边框体,该边框体于阴影框架2的内侧进行支撑并采用“四角八点”的支撑模式。具体的,所述边框体的每个组成边框01上设置有两个可旋转的悬臂02,总共八个悬臂02一起配合来吊放阴影框架2。
如图2所示,所述阴影框架2在理想状态下,需保持水平而不能向外侧弯曲。但是,如图3所示,所述阴影框架02在实际状态下,由于重力作用而向外侧弯曲。因此,前述专用吊具1将导致被吊物尤其是组装件(例如铝销连接的陶瓷组件),出现变形、松动,从而在使用过程中易发生解体掉落的问题,安全性低。
因此,有必要开发一种能够保证被吊物在吊放过程中不发生倾斜的吊具。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种吊具,能够避免现有技术中因被吊物单侧受力所引起的问题,以提升吊具使用的安全性和可靠性。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种吊具,适用于悬吊中空的多边形体,所述多边形体至少具有三条侧边,所述吊具包括支架,所述支架上设置有多组吊挂部,所述吊挂部的数量不小于所述侧边的数量;每组吊挂部包括用于设置在同一条侧边之相对两侧的两个悬吊件,任意一组吊挂部的两个悬吊件能够对所述同一条侧边进行对称支撑而实现悬吊。
可选的,所述多边形体的每一条侧边设置有至少两组吊挂部,所述至少两组吊挂部共同配合对称支撑起同一条侧边。
可选的,任意一组吊挂部的两个悬吊件对称设置在所述支架上。
可选的,每个悬吊件能够作360°旋转运动。
可选的,所述悬吊件具有延伸臂,所述延伸臂的一部分或全部长度用于支撑所述侧边。
可选的,所述延伸臂用于沿所述侧边的宽度方向支撑所述侧边,且所述延伸臂支撑所述侧边的尺寸为所述侧边宽度的三分之一。
可选的,所述悬吊件还具有支撑臂,所述支撑臂的一端与所述支架连接,另一端与所述延伸臂连接,所述支撑臂与所述延伸臂相垂直。
可选的,所述多边形体具有四条侧边以形成四边形结构,所述四边形结构用于覆盖基座的暴露区域,且所述基座用于承载待气相沉积的衬底。
可选的,所述四边形结构为陶瓷组件,所述陶瓷组件的相邻侧边通过销轴连接。
可选的,所述支架包括横梁、纵梁和过渡梁,所述横梁沿第一方向布置,所述纵梁沿第二方向布置,所述第一方向垂直于第二方向;所述横梁的一端连接所述纵梁,所述纵梁上设置至少一根所述过渡梁;所述过渡梁沿第一方向布置,且一根所述过渡梁上设置一组吊挂部。
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