[实用新型]一种表面抛光系统有效

专利信息
申请号: 201820569154.6 申请日: 2018-04-20
公开(公告)号: CN208246532U 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 沈秀登 申请(专利权)人: 象山通大机械制造有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B27/00;B24B9/04;B24B47/12;B24B41/02;B24B47/04;B24B55/06;C25F3/16;B23H5/08
代理公司: 宁波象山甬恒专利代理事务所(普通合伙) 33270 代理人: 顾赛喜
地址: 315700 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 内抛光 传动圆盘 罐体 抛光机构 定位架 表面抛光 定位丝杆 抛光 抛光轮 转动 可移动地设置 本实用新型 大型罐体 罐体内壁 连接定位 抛光设备 上下移动 可调节 外边缘 支撑腿 丝杆 贴合 外壁 伸展 节约 延伸
【说明书】:

本实用新型提供的一种表面抛光系统包括抛光设备,其包括传动机构、侧抛光机构以及内抛光机构,侧抛光机构可移动地设置于传动机构和内抛光机构中间,传动机构包括定位丝杆、定位架以及传动圆盘,定位架连接定位丝杆和传动圆盘,定位架随着定位丝杆的转动而上下移动,传动圆盘的外边缘连接罐体的支撑腿,使得罐体随着传动圆盘的转动而旋转,侧抛光机构设有两对侧抛光轮,侧抛光轮可调节地贴合于罐体的外壁,得以对罐体的外侧进行抛光,内抛光机构设有一内抛光轮,内抛光轮可伸展调节地向罐体内壁延伸,实现对大型罐体的内外全面抛光,节约成本,提高效益。

技术领域

本实用新型涉及抛光技术领域,具体地说,是一种适用于罐体的表面抛光系统。

背景技术

罐体在经过各工序的加工成型后,需要对罐体的环焊缝、直焊缝以及罐体表面进行抛光,常用的抛光方法有机械抛光、化学抛光以及电解抛光,机械抛光是用微细磨粒与软质工具对零件表面光饰的加工工艺,抛光过程中磨粒与工件表面的作用有滑擦、耕犁以及切削三种状态,在这三种状态中磨削温度和磨削力是递增的,由于磨粒是附着在软质的基体上,因此在磨削力的作用下磨粒会不同程度的缩回到较软的基体里面,在工件表面上产生微小的划痕,生成细微的切削。由于罐体的尺寸较大,普通的抛光设备无法做到对罐体的全面抛光,尤其是对罐体内外的全方位抛光。机械抛光的抛光精度具有限制性,而光靠化学抛光或者电解抛光无法对大型罐体的表面进行深入抛光处理,导致抛光效果不理想。

发明内容

本实用新型的主要目的在于提供一种表面抛光系统,其克服现有技术的不足,提高大型罐体的抛光效果,实现对大型罐体的内外全面抛光,节约成本,提高效益。

本实用新型的另一目的在于提供一种表面抛光系统,其结合机械抛光和电解抛光工艺,得以对大型罐体进行全方位抛光,降低大型罐体的表面粗糙度,提高表面光滑效果。

本实用新型的另一目的在于提供一种表面抛光系统,其通过传动机构得以对大型罐体实现定位,便于调节大型罐体的高度、转动速度以及转动方向,提高抛光效果,防止大型罐体在抛光过程中发生抖动。

本实用新型的另一目的在于提供一种表面抛光系统,其通过侧抛光机构有效调节侧面抛光位置,实现精准移动定位,还适配于不同大小的罐体进行侧面抛光处理。

本实用新型的另一目的在于提供一种表面抛光系统,其通过内抛光机构与侧抛光机构的同步使用,提高大型罐体的抛光效率,实现内外旋转抛光,改善罐体表面的微观不平度。

本实用新型的另一目的在于提供一种表面抛光系统,其通过抛光设备的粗抛光处理和电解抛光的精抛光处理,全面降低罐体表面的粗糙度,适用于大型罐体,使其光滑表面不易被物料吸附,清洗容易,节约成本,提高效益。

为达到以上目的,本实用新型采用的技术方案为:一种表面抛光系统包括抛光设备,所述抛光设备包括传动机构、侧抛光机构以及内抛光机构,所述侧抛光机构可移动地设置于所述传动机构和所述内抛光机构中间,所述传动机构包括定位丝杆、定位架以及传动圆盘,所述定位架连接所述定位丝杆和所述传动圆盘,所述定位架随着所述定位丝杆的转动而上下移动,所述传动圆盘的外边缘连接罐体的支撑腿,使得罐体随着所述传动圆盘的转动而旋转,所述侧抛光机构设有两对侧抛光轮,所述侧抛光轮可调节地贴合于罐体的外壁,得以对罐体的外侧进行抛光,所述内抛光机构设有一内抛光轮,所述内抛光轮可伸展调节地向罐体内壁延伸。

根据本实用新型的一实施例,所述定位架包括定位部以及传动部,所述定位部可上下移动地连接于所述定位丝杆,所述传动部连接所述定位部和所述传动圆盘。

根据本实用新型的一实施例,所述传动机构进一步包括传动构件,所述传动构件安装于所述传动部内,所述传动构件包括传动电机、第一传动齿轮以及第二传动齿轮,所述传动电机连接所述第一传动齿轮,所述第二传动齿轮啮合于所述第一传动齿轮,所述第二传动齿轮连接于所述传动圆盘。

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