[实用新型]一种霍尔离子源气路结构

权利要求书

1.一种霍尔离子源气路结构，包括依次连接的进气装置(1)、缓冲装置(2)以及反应腔，其特征在于，所述缓冲装置(2)包括上、下设置的气体分配器(4)和陶瓷碗(5)，所述陶瓷碗(5)和气体分配器(4)均为圆盘状，所述陶瓷碗(5)的上表面设置有环形减压腔(6)，其环形减压腔(6)上设置有通气孔(7)，所述通气孔(7)与进气装置(1)连接，所述气体分配器(4)沿圆心均匀设置有多个出气孔(8)，多个所述出气孔(8)与反应腔接通。

2.根据权利要求1所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述气体分配器(4)的中心设置有圆环(9)，圆环(9)外罩设有导磁片(10)和刻蚀盖(11)。

3.根据权利要求2所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述导磁片(10)为环状，其内径等于所述圆环(9)的外径。

4.根据权利要求2所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述刻蚀盖(11)的中部设置有凸起(17)，所述凸起(17)的半径等于所述圆环(9)的外径。

5.根据权利要求1所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述进气装置(1)包括进气筒(12)和气体过渡盘(13)。

6.根据权利要求5所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述气体过渡盘(13)的中部设置有过渡腔，所述气体过渡盘(13)的上、下表面分别设置有与所述过渡腔连通的第一通孔(14)和第二通孔(15)，所述第一通孔(14)与通气孔(7)接通，所述第二通孔(15)与进气筒(12)接通。

7.根据权利要求6所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述第一通孔(14)和第二通孔(15)错位设置，分别位于过渡腔的两端。

8.根据权利要求6所述的一种霍尔离子源气路结构，其特征在于，所述气体过渡盘(13)、陶瓷碗(5)以及气体分配器(4)均设置有螺钉(3)孔。