[实用新型]一种降低应力迁移的金属互连结构有效
| 申请号： | 201820572220.5 | 申请日： | 2018-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN208028059U | 公开（公告）日： | 2018-10-30 |
| 发明（设计）人： | 姚斌;陈雷刚 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/535 | 分类号： | H01L23/535 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 下金属层 连接通孔 通孔 上金属层 应力迁移 介质层 金属层 金属互连结构 半导体领域 本实用新型 空位聚集 空位扩散 相邻设置 应力梯度 上端 阻碍 盲孔 下端 开口 | ||
1.一种降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，包括：
相邻设置的下金属层和上金属层，所述下金属层和所述上金属层之间设有介质层；
连接通孔，所述连接通孔设置于所述介质层，所述连接通孔上端与所述上金属层相连，所述连接通孔的下端通过一呈条形的窄金属层与所述下金属层相连；
多个伪通孔，所述伪通孔为设置于所述介质层中的盲孔，所述伪通孔的开口与所述下金属层相接。
2.根据权利要求1所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述下金属层的上表面开设有一沟槽，所述沟槽位于所述下金属层和所述窄金属层的连接处。
3.根据权利要求2所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述沟槽呈条形，所述沟槽的长度方向与所述窄金属层的长度方向相垂直。
4.根据权利要求2所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述沟槽呈L字形，所述沟槽的一边垂直于所述窄金属层的长度方向。
5.根据权利要求2所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述沟槽呈正方形，所述沟槽的一边垂直于所述窄金属层的长度方向。
6.根据权利要求1所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述伪通孔均匀排列于所述窄金属层的两侧。
7.根据权利要求6所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述窄金属层的两侧的所述伪通孔组成多个条形队列，每一所述条形队列的延伸方向与所述窄金属层的长度方向平行。
8.根据权利要求7所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述窄金属层的两侧分别设置两条或三条所述条形队列。
9.根据权利要求1所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述伪通孔横截面呈矩形。
10.根据权利要求1所述的降低应力迁移的金属互连结构，其特征在于，所述伪通孔的长度方向垂直于所述下金属层。
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