[实用新型]用于粉末床熔合的装置有效
| 申请号： | 201820628456.6 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN208644069U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 亚哈·纳吉·艾尔·那加;约翰·拉塞尔·巴克内尔 | 申请（专利权）人： | 戴弗根特技术有限公司 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B33Y30/00;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王小衡;任庆威 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粉末颗粒 能量束 带电 熔合 粉末材料层 电气系统 粉末床 施加 粉末材料 构造底板 装置提供 电压源 构造板 构造件 偏转器 散射 支撑 | ||
1.一种用于粉末床熔合的装置，其特征在于，所述装置包括：
结构，其支撑具有多个粉末颗粒的粉末材料层；
能量束源，其生成能量束；
偏转器，其施加所述能量束来熔合所述层中的粉末材料的区域，其中，所述能量束在电气上使所述粉末颗粒带电；以及
电气系统，其在所述结构与带电的粉末颗粒之间生成电力。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述电气系统包括将第一电压施加至所述结构的电压源。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述装置还包括与所述偏转器布置在一起的一个或多个附加结构，并且其中，所述电压源被配置为将第二电压施加至所述一个或多个附加结构。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括与所述偏转器布置在一起的一个或多个附加结构，并且其中，所述电气系统还包括将电压施加至所述一个或多个附加结构的电压源。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，将所述一个或多个附加结构与所述偏转器布置在一起，以减少对所述能量束的影响。
6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述装置还包括控制系统，其与所述偏转器一起操作以补偿所述一个或多个附加结构对所述能量束的影响。
7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述偏转器包括屏蔽件，其被配置为带电的以偏转所述能量束。
8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述偏转器被配置为定位地控制所述能量束源，以施加所述能量束来熔合所述粉末材料的区域。
9.一种用于粉末床熔合的装置，其特征在于，所述装置包括：
一个或多个结构，其包括粉末材料支撑结构；
能量束源，其被导向所述粉末材料支撑表面；
偏转器，其与所述能量束源可操作地耦合；以及
电压源，其与所述一个或多个结构中的至少一个相连接。
10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述电压源与所述粉末材料支撑结构相连接。
11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述一个或多个结构还包括至少一个屏蔽件，并且其中，所述电压源还与所述至少一个屏蔽件中的每一个相连接。
12.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述至少一个或多个结构还包括多个屏蔽件，并且其中，所述电压源与所述屏蔽件中的每一个相连接。
13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，围绕在所述偏转器与所述粉末材料支撑结构之间延伸的法向轴对称地布置所述屏蔽件。
14.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述装置还包括控制系统，其与所述偏转器可操作地耦合，以补偿所述多个屏蔽件对所述能量束的影响。
15.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述偏转器包括屏蔽件。
16.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述偏转器被配置为定位地控制所述能量束源。
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