[实用新型]一种气浮装置、工件台和光刻机

权利要求书

1.一种气浮装置，其特征在于，包括承载单元和气浮单元；

所述承载单元固定连接于所述气浮单元的第一表面；

所述气浮单元包括多个出气口，所述多个出气口在所述气浮单元的第二表面呈阵列分布；

所述气浮单元的第二表面与第一表面相对设置。

2.根据权利要求1所述的气浮装置，其特征在于，所述气浮单元还包括至少一个进气口，以及连通所述至少一个进气口与所述多个出气口的气路；

其中，所述至少一个进气口位于所述气浮单元的第三表面，所述第三表面连接所述第一表面与所述第二表面。

3.根据权利要求2所述的气浮装置，其特征在于，还包括多个出气孔道，所述气路包括交叉连通的第一气路与第二气路；

每个所述出气孔道的第一开口形成一所述出气口，所述出气孔道的第二开口与所述第一气路和所述第二气路连通，所述出气孔道的第二开口设置于所述第一气路与所述第二气路的连通处。

4.根据权利要求3所述的气浮装置，其特征在于，还包括多个堵头接口；

所述多个堵头接口设置于所述第一气路位于所述气浮单元的第三表面的开口处，以及所述第二气路位于所述气浮单元的第三表面的开口处；

在所述第一气路和所述第二气路在所述第三表面的开口，未设置所述堵头接口的开口构成所述进气口。

5.根据权利要求4所述的气浮装置，其特征在于，还包括多个密封结构；

所述密封结构用于密封所述堵头接口；

所述密封结构的数量等于所述堵头接口的数量。

6.根据权利要求3所述的气浮装置，其特征在于，还包括均压机构；

所述均压机构位于所述气浮单元的第二表面；

所述均压机构连接至少部分所述出气口。

7.根据权利要求6所述的气浮装置，其特征在于，所述均压机构包括第一均压槽和第二均压槽；

所述第一均压槽沿第一方向连接所述出气口；

所述第二均压槽沿第二方向连接所述出气口。

8.根据权利要求7所述的气浮装置，其特征在于，所述第一均压槽和所述第二均压槽均由所述气浮单元的第二表面向第一表面凹陷，所述第一均压槽的宽度A1的取值范围为0.2mm≤A1≤0.6mm，深度B1的取值范围为0.05mm≤B1≤0.1mm；所述第二均压槽的宽度A2的取值范围为0.2mm≤A2≤0.6mm，深度B2的取值范围为0.05mm≤B1≤0.1mm。

9.根据权利要求1所述的气浮装置，其特征在于，所述出气口的形状为圆形，所述圆形的出气口的直径D的取值范围为0.03mm≤D≤0.08mm。

10.根据权利要求1所述的气浮装置，其特征在于，相邻所述出气口之间的距离E的取值范围为80mm≤E≤160mm。

11.根据权利要求3所述的气浮装置，其特征在于，还包括节流嘴；

所述节流嘴位于所述出气孔道内部，与所述出气孔道固定连接。

12.根据权利要求1所述的气浮装置，其特征在于，所述出气口在所述气浮单元的第二表面呈m行n列的阵列分布；

其中，m和n均为等于或大于2的整数。

13.根据权利要求1所述的气浮装置，其特征在于，所述承载单元包括支承板和外部框架；

所述支承板与所述外部框架固定连接，包围所述气浮单元的第一表面和第三表面；

所述外部框架上设置有与所述气浮单元的进气口相对应的辅助进气口。

14.一种工件台，其特征在于，包括权利要求1-13任一项所述的气浮装置、载物平台及气浮平台；

其中，所述气浮装置用于支撑所述载物平台在所述气浮平台上作无摩擦运动。

15.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求14所述的工件台。