[实用新型]一种具备回转支撑装置的抛光机有效
申请号: | 201820630856.0 | 申请日: | 2018-04-28 |
公开(公告)号: | CN208215069U | 公开(公告)日: | 2018-12-11 |
发明(设计)人: | 刘小钰;江龙 | 申请(专利权)人: | 成都亚沃航空科技有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B47/12;B24B41/06;B24B41/02;B24B51/00;B24B41/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光机 旋转支撑轴 抛光轮 滑轨 工件支撑装置 回转支撑装置 本实用新型 水平支撑 安装板 滑动槽 底座 工件限位装置 规格工件 回转操作 机体下部 开口形式 控制装置 抛光效率 平行设置 驱动电机 伺服电机 预定轨道 抛光 精抛 壳体 上套 | ||
本实用新型公开了一种具备回转支撑装置的抛光机,其包括有抛光机机体、滑轨和抛光轮。抛光轮设置于抛光机机体的下部,抛光轮连接有伺服电机;抛光机机体下部壳体为开口形式;滑轨与抛光机机体平行设置。抛光机还包括有工件支撑装置底座和控制装置,工件支撑装置底座上安装有驱动电机和圆盘旋转支撑轴;圆盘旋转支撑轴上安装有圆盘,圆盘上沿着圆盘旋转支撑轴均匀分布有水平支撑轨,水平支撑轨上套有滑动槽,滑动槽上固定安装有水平的安装板,安装板上固定安装有工件限位装置。本实用新型的有益效果是,实现一台抛光机可以完成多规格工件的抛光,抛光效率高;滑轨可以使得工件在预定轨道上进行多次回转操作,只需一人即可完成精抛操作。
技术领域
本实用新型涉及机械加工技术领域,尤其是涉及一种具备回转支撑装置的抛光机。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法,是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工,抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层,同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。
目前在机械打磨和工件抛光技术中,以单一的抛光为主,常见的是以一个抛光轮为主的抛光设备,而且需要人工进行工件的把控才能完成抛光,然而在精加工技术领域,对工件的抛光是多层次的,需要进行多次抛光和精磨才能达到效果,因此传统的抛光设备需要多台设备以及复杂的工序组合才可以完成,同时对人力和物力都是一种考验,因此对于提升工件的加工效率以及出货量还说都是一个巨大的考验。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型提出了本实用新型提供了一种具备回转支撑装置的抛光机,该抛光机包括有抛光机机体、滑轨和抛光轮。
所述抛光轮设置于抛光机机体的下部,抛光轮连接有伺服电机;所述抛光机机体下部壳体为开口形式;所述滑轨与抛光机机体平行设置,抛光机机体通过气动滑杆和滑轨连接;所述抛光机的壳体上设置有抛光轮调节器。
所述抛光机还包括有工件支撑装置底座,工件支撑装置底座上安装有驱动电机和圆盘旋转支撑轴;所述圆盘旋转支撑轴上安装有圆盘,圆盘上沿着圆盘旋转支撑轴均匀分布有水平支撑轨,水平支撑轨上套有滑动槽,滑动槽上固定安装有水平的安装板,安装板上固定安装有工件限位装置。
所述抛光机还包括控制装置,控制装置包括PLC控制器、人机界面、传感器;所述PLC控制器包括电源、输入接口、CPU和输出接口,输入接口、CPU和输出接口依次连接,电源分别与输入接口、CPU和输出接口连接,用于供电;所述传感器与输入接口连接,用于检测并反馈信号到PLC控制器;所述人机界面分别通过输入接口和输出接口连接与PLC控制器连接,用于人机交互控制;所述PLC控制器还通过输出接口连接有伺服电机和行走台驱动电机,用于发送控制指令到伺服电机和行走台驱动电机。
进一步地,所述的滑动槽两侧开有螺孔,可通过螺钉在水平支撑轨上定位。
进一步地,所述抛光机机体内还设置有除尘风机。
进一步地,所述传感器为红外传感器。
进一步地,所述人机界面设置在抛光机机体的侧面,其包括液晶显示屏和控制按钮。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:实现一台抛光机可以完成多规格工件的抛光,抛光效率高;滑轨可以使得工件在预定轨道上进行多次回转操作,能够对工件进行多次抛光,只需一人即可完成精抛操作。且该抛光机结构简单,使用方便,节省人力物力,提升企业产能。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的俯视图;
图3为本实用新型的局部放大图;
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