[实用新型]显影喷嘴清洗槽及显影液喷涂系统

说明书

本实用新型提供一种显影喷嘴清洗槽及显影液喷涂系统，包括：清洗槽主体；凹槽，位于清洗槽主体内；密封圈，位于清洗槽主体的顶部，并位于凹槽外围；显影喷嘴置于显影喷嘴清洗槽上时，显影液容纳主体的底部压紧密封圈，以将显影液容纳主体与清洗槽主体之间的凹槽形成为密闭空腔，喷嘴收容于密闭空腔内；抽气管路，一端经由清洗槽主体的侧壁插入凹槽内，另一端位于清洗槽主体外侧；用于将密闭空腔抽成微真空的真空泵，与抽气管路位于所述清洗槽主体外侧的一端相连接。本实用新型可以有效避免空气进入喷嘴内，不会在喷嘴内的显影液中形成微气泡，从而可以确保下次显影液喷涂时的喷涂性能，提高生产良率。

技术领域

本实用新型属于半导体设备技术领域，特别是涉及一种显影喷嘴清洗槽及显影液喷涂系统。

背景技术

在现有工艺中，每次喷涂完显影液后都需要停止喷涂并将显影喷嘴置于显影喷嘴清洗槽内进行清洗。如图1所示，显影液喷涂系统中，与显影喷嘴1’相连接的显影液4’的供液管路2’通过机械阀3’的开关来控制显影液的流断，经过长期的往复开关使用之后，所述机械阀3’会发生老化，导致所述机械阀3’对液面截断时产生延迟等作用，这样气体会进入所述显影喷嘴1’内，从而使得所述显影喷嘴1’处的截止液面41’会变成不规则形状(如图2所示)，如果所述供液管路2’发生抖动，在所述显影喷嘴1’处的所述显影液4’内会产生微气泡5’(如图1所示)，这都将会导致下一次喷涂所述显影液4’时的喷涂性能变差，影响产品的良率。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种显影喷嘴清洗槽及显影液喷涂系统，用于解决现有技术中由于老化等原因，机械阀对显影液进行截断时会产生延迟等作用，气体会进入显影喷嘴内，使得显影喷嘴内显影液的截止液面呈不规则形状，及会在显影喷嘴内的显影液中产生气泡，从而影响下一次显影液喷涂的性能及产品良率的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种显影喷嘴清洗槽，用于对显影喷嘴进行清洗，所述显影喷嘴包括显影液容纳主体及喷嘴，所述喷嘴位于所述显影液容纳主体下方，且与所述显影液容纳主体内部相连通，所述显影喷嘴清洗槽包括：

清洗槽主体；

凹槽，位于所述清洗槽主体内；

密封圈，位于所述清洗槽主体的顶部，并位于所述凹槽外围，且所述密封圈环绕所述凹槽四周；所述显影喷嘴置于所述显影喷嘴清洗槽上时，所述显影液容纳主体的底部压紧所述密封圈，以将所述显影液容纳主体与所述清洗槽主体之间的所述凹槽形成为密闭空腔，所述喷嘴收容于所述密闭空腔内；

抽气管路，一端经由所述清洗槽主体的侧壁插入所述凹槽内，另一端位于所述清洗槽主体外侧；

用于将所述密闭空腔抽成微真空的真空泵，与所述抽气管路位于所述清洗槽主体外侧的一端相连接。

优选地，所述密封圈包括O型密封圈。

优选地，所述显影喷嘴于所述显影喷嘴清洗槽内进行清洗时，所述密闭空腔内的真空度介于10^-1～10^-2Pa之间。

优选地，所述显影喷嘴清洗槽还包括真空度侦测传感器，设置于所述清洗槽主体上，以侦测所述密封空腔内的真空度。

本实用新型还提供一种显影液喷涂系统，所述显影液喷涂系统包括：

用于放置待处理晶圆的承载台；

显影喷嘴，包括显影液容纳主体及喷嘴，所述喷嘴位于所述显影液容纳主体下方，且与所述显影液容纳主体内部相连通；

供液管路，一端与显影液源相连接，另一端与所述显影液容纳主体的内部相连通；

机械阀，位于所述供液管路上；

显影喷嘴清洗槽，包括：