[实用新型]光刻光源传输光路系统的辅助调整装置有效

专利信息
申请号: 201820656776.2 申请日: 2018-05-03
公开(公告)号: CN208076921U 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 苏佳妮;齐月静;王宇;卢增雄;杨光华;齐威 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 郎志涛
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 辅助架 反射镜装置 辅助调整装置 本实用新型 光斑 反射元件 光路系统 光源传输 激光光源 配合连接 标记部 光刻 反射 长距离传输 标记部位 标记辅助 表面成像 光斑位置 前端表面 透光 光路 穿过 返回 配合
【说明书】:

实用新型提供了一种光刻光源传输光路系统的辅助调整装置,该辅助调整装置包括能够分别安装在不同的所述反射镜装置上的第一辅助架和第二辅助架,第一辅助架的前端表面设有透光的标记部,标记部位于第一辅助架的中心,第一辅助架的后端设有能够与反射镜装置或激光光源相配合连接的第一接口,第二辅助架的前端设有反射元件,第二辅助架的后端设有能够与反射镜装置相配合连接的第二接口,激光光源发出的光线能够穿过所述标记部在反射镜装置的表面成像形成第一光斑,并且该第一光斑能够经第二辅助架的反射元件反射后返回至第一辅助架。本实用新型利用标记辅助架和反射辅助架配合调整,能实现长距离传输光路中光斑位置及形状的快速、准确调整。

技术领域

本实用新型涉及投影光刻、光源性能参数检测技术领域,特别是涉及一种光刻光源传输光路系统的辅助调整装置。

背景技术

得益于集成电路的迅速发展,信息化已经广泛渗透到现代社会的各个领域,与国家经济、国防建设、人民生活息息相关。从最初的单个晶体管到今天的高集成度芯片,集成电路的不断微型化、集成化主要归功于光刻技术的不断发展与进步。

光源与投影物镜、照明系统并列为光刻机的三大核心部件。光源波长的缩短是提升光刻分辨率的关键参数之一,因此光刻光源的发展是逐渐向短波长发展,g线(365nm)、i线(248nm)、193nm、13.5nm…。目前,业界内应用最广泛的光刻设备是光学投影光刻机,其主流光源是ArF准分子激光器(193nm)。

由于光源体积较大,独自成系统,通常是与光刻机主机独立开的,经由一定路径的传输光路系统,将光源出射的激光导入到光刻机主机。传输光路系统基于反射镜的反射原理,将光束进行传播方向的改变,实现光束传输。传输光路系统一般由反射镜和管道组成,反射镜以及其与管道连接处均为加密封元件的封闭装置,避免在激光传输过程中与空气发生反应产生废气,同时,通入氮气,在封闭装置内保持微正压,迫使空气无法进入装置,减少空气进入。

由于传输光路的距离较远,通常为5~20米,针对不同的传输距离,会设计不同个数的反射镜,工程师通常依靠经验进行光路调整,调整时间较长;并且随着传输距离的增加,反射镜的增多,容易出现调整到靠近光刻主机的位置,光斑形状变差、光斑位置偏离光轴,无法调整进主机的情况,导致前功尽弃,需要重新调整的情况。

实用新型内容

本实用新型的目的是至少解决上述缺陷与不足之一,该目的是通过以下技术方案实现的。

本实用新型提供了一种光刻光源传输光路系统的辅助调整装置,用于调整传输光路系统中的光斑,所述传输光路系统包括多个反射镜装置,所述辅助调整装置包括第一辅助架和第二辅助架,所述第一辅助架和所述第二辅助架能够分别安装在不同的所述反射镜装置上,所述第一辅助架的前端表面设有透光的标记部,所述标记部位于所述第一辅助架的中心,所述第一辅助架的后端设有能够与所述反射镜装置或激光光源相配合连接的第一接口,所述第二辅助架的前端设有反射元件,所述第二辅助架的后端设有能够与所述反射镜装置相配合连接的第二接口,所述激光光源发出的光线能够穿过所述第一辅助架的所述标记部在所述反射镜装置的表面成像形成第一光斑,并且所述第一光斑能够经所述第二辅助架的所述反射元件反射后返回至所述第一辅助架。

进一步地,所述第一辅助架和所述第二辅助架的中心连线竖直或水平。

进一步地,所述标记部的形状为狭长的十字型或米字型。

进一步地,所述反射元件为平面镜或曲面镜。

进一步地,所述反射元件的表面镀有金属反射膜。

进一步地,所述反射元件可拆卸地安装在所述第二辅助架的边框内,所述边框不透光。

进一步地,所述第一辅助架和所述第二辅助架的形状相同。

进一步地,所述第一辅助架和第二辅助架为铝辅助架、不锈钢辅助架或陶瓷辅助架。

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