[实用新型]纳米光栅透明全息成像膜有效
申请号: | 201820665979.8 | 申请日: | 2018-05-06 |
公开(公告)号: | CN208092424U | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 杨大海 | 申请(专利权)人: | 深圳市真屏科技发展有限公司 |
主分类号: | G03B21/62 | 分类号: | G03B21/62 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 成像膜 成像材料 纳米光栅 透明光栅 透明全息 结构层 本实用新型 透明基材层 微槽结构 等宽 微槽 填充 投影成像效果 等间距排列 透明度 材料雾度 成像光栅 光学成像 光栅结构 纳米级别 浅色油墨 人眼观察 投影成像 透明材料 成像 平行 线条 透明 保证 | ||
1.一种纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,其包括透明基材层(10)和透明光栅结构层(20),所述透明光栅结构层(20)的一侧表面与所述透明基材层(10)结合,其另一侧表面上设有若干个等宽等间距的微槽(21),在所述微槽(21)内填充有纳米成像材料(50),在所述透明光栅结构层(20)的设有微槽(21)的一侧表面上复合有离型膜(30)。
2.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,所述成像材料(50)为纳米浅色油墨,所述离型膜(30)通过粘合胶(40)复合于所述透明光栅结构层(20)的设有微槽(21)的一侧表面上。
3.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,相邻两个微槽(21)之间间隔的距离为0.03MM~0.5MM;各微槽(21)的截面最大处的宽度为0.001MM~0.1MM。
4.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,所述透明光栅结构层(20)与所述透明基材层(10)一体成型或固定结合在一起。
5.如权利要求1所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,所述微槽(21)分别包括朝向透明基材层(10)的底面(211)、侧面及开口(212),所述侧面与所述底面(211)倾斜相交,所述开口(212)呈开放状而背离所述透明基材层(10),各微槽(21)的开口(212)的宽度分别大于其底面(211)的宽度。
6.如权利要求5所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,各微槽(21)的侧面包括与其底面(211)的不同边相交的第一侧面(213)和第二侧面(214),所述第一侧面(213)和第二侧面(214)的尺寸一致。
7.如权利要求5所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,各微槽(21)的侧面包括与其底面(211)的不同边相交的第一侧面(213)和第二侧面(214),所述第一侧面(213)与第二侧面(214)的尺寸不一致。
8.如权利要求6或7所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,相邻两个微槽(21)之间的第一侧面(213)和第二侧面(214)的两边边缘分别相间隔。
9.如权利要求6或7所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,所述底面(211)为平面,其与所述透明基材层(10)的表面平行。
10.如权利要求6或7所述的纳米光栅透明全息成像膜,其特征在于,所述底面(211)为朝透明基材层(10)方向凹陷的弧面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市真屏科技发展有限公司,未经深圳市真屏科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820665979.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。